清洗配方一
1%-2%柠檬酸溶液或0.4%HCl溶液，适用于铁污染及碳酸盐结晶污堵；
清洗配方二
0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，适用于清洗由有机物及活性生物引起的超滤膜组件的污染；
清洗配方三
0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，适用于清洗由谷氨酸发酵液引起的超滤膜组件的污染；
清洗配方四
1%甲醛溶液，适用于细菌污染的超滤；
清洗配方五
HNO3：0.5%水溶液，适用于电泳漆处理过程中磷酸铅对超滤造成的污堵（此清洗必须在其他常规化学清洗之后进行。）；
清洗配方六
清洗剂配方：20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于胶体污染物造成的膜污染；
清洗配方七
清洗剂配方：9%的十二烷基苯磺酸钠、9%的表面活性剂、0.4%的NaOH、0.15的无水碳酸钠、11%的磷酸钠、10%的硅酸钠，清洗时需注意pH的控制，有些膜不适用于高pH清洗液的清洗，要慎重选择，主要用于清洗含油废水所造成的膜污染；
清洗配方八
清洗剂配方：3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二钠、0.5%的LBOW专用清洗剂，主要用于清洗蛋白质和油脂污染物造成的污染。
清洗配方九
清洗剂配方：20%的H2SO4，主要用于超滤系统中硅垢结晶造成的污染。
