根据路透社报道，由前 Google 执行董事长 Eric Schmidt 带领的美国国家人工智能安全委员会 （NSCAI）日前建议美国政府，应该联合日本和荷兰等半导体设备制造商，限制中国采购高端制程设备的能力。
NSCAI 指出，建议美国应与日本和荷兰等国家协商，对于高端芯片生产设备的出口许可证申请采用 “假定拒绝” 政策，并建议把监管惯例升格为美国国家政策，将中国半导体制造业维持在落后美国两个世代的水平。
很显然地，这次美国 NSCAI 瞄准的目标，是尼康 Nikon、佳能 Canon、ASML 等全球三大光刻机大厂。因为多数美国设备制造商包括应用材料、Lam Research 等，在 2020 年已经历了多轮的出口管制限制。
这样的目的很明显，是想要把中国在半导体制造上的技术能力，压抑在成熟制程水平上，限制国内发展高端制程技术的能力。更进一步的思考，美国是担心中国在未来几年内，半导体制造能力会超越美国。
目前荷兰 ASML 多数光刻机都可以进口到中国，只是设备的交期较长。唯一例外是生产制造 7nm 制程技术以下的极紫外光（EUV）机台受到限制，无法进口到中国。
全球三大光刻机大厂中，ASML 市占约 75%、Nikon 和 Canon 约 13% 和 6%，三者合计的市占率逼近 95%。
大家最常听到的是极紫外光 EUV 光刻机，该技术目前只有 ASML 有能力生产制造，处于垄断地位。
但其实光刻机分很多种，目前市场上销售的光刻机除了 EUV 光刻机，还有 ArF lm 光刻机、ArF Dry 光刻机、KrF 光刻机和 i-line 光刻机等。除了 EUV 之外，两大日商在其他种类的机台市场上，仍是非常活跃。
虽然美国不具备光刻机生产技术，但在这次的战役中，显然地美国是希望荷兰和日本能加入美国阵营，限制中国在半导体制造上的崛起。
假设如美国国家人工智能安全委员会（NSCAI）的建议，荷兰和日本的高端半导体设备进入中国，都先行采用 “假定拒绝” 政策，等于除了美国设备商的机台进入国内受限制之外，未来荷兰和日本的设备也受到管制，影响范围将再扩大。
再者，NSCAI 该也建议美国应该斥资 350 亿美元来奖励芯片厂，鼓励半导体制造业回流美国。这与美国总统拜登提出以 370 亿美元资金，扩大在美国制造芯片的政策是不谋而合。
