覃思科技会同美国PIE拟于6月8日和9日举办两场RF等离子清洁前沿技术研讨会，届时由PIE首席科学家江博士主讲，SEM、TEM、CryoEM、FIB、XPS等应用案例丰富，干货满满。期待与您相见于云端！
6月8日第一讲：
6月9日第二讲：
内容提要：
1）常见等离子清洁仪只有一个离子源，难以兼顾“强力去除污染物”和“温和清洁脆弱样品”。采用双等离子源设计，可满足不同样品的要求。远程下游模式足够温和，可处理3nm超薄多孔碳支持膜载网。直接浸入模式的强度足以去除几微米厚的有机污染层。
2）先进的脉冲等离子体技术，可为极薄的多孔碳支持膜载网产生极弱的等离子体。这是常规等离子清洁仪所不具备的独特功能，非常实用。
3）市面上的一般等离子清洁仪，对所产生的等离子强度都是“盲人摸象”，无法定量控制。采用独特的等离子体强度传感器，可定量监测等离子体强度。用户可以根据不同的样品对等离子体进行相应调整和精细控制。
4）介绍水蒸气等离子体这一前沿技术及其在获取超亲水表面方面的应用。
欢迎业内老师参会交流（详见上述邀请函）！
会议时间：
北京时间6月8日（第一讲）和6月9日（第二讲），14:00-15:00。
腾讯会议号：
第一讲：614229052
第二讲：918252169
清洁效果案例：
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