2、俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机,2026年生产130nm光刻机
俄罗斯正在研发生产芯片的光刻机,其工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示,2024年将开始生产350 nm光刻机,2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备,生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
Vasily Shpak在接受采访时表示,全球只有两家公司生产此类设备——日本尼康和荷兰ASML。对于半导体技术的重要性,Vasily Shpak称,“一个简单的逻辑链:如果没有微电子主权,那就没有技术主权,那么你在国防安全和政治主权方面就非常弱。”现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术,但无法生产光刻机。由于外国公司被禁止向俄罗斯出口现代光刻设备,该国正在匆忙开发自己的生产设备。
3、三星宣布:2024年下半年量产第二代3nm及第四代4nm制程
三星宣布,将于明年下半年开始使用其第二代3nm(SF3)制程及其增强版4nm级(SF4X)制造工艺生产芯片。
三星在一份声明中表示,由于移动设备需求的反弹和高性能运算(HPC)需求的持续增长,预计整体市场将增长。三星将在2024年下半年量产第二代3nm制程,以及用于HPC领域的第四代4nm工艺来增强技术竞争力。据悉,三星即将推出的SF3工艺是对现有SF3E生产节点的重大升级,该制程目前仅用于制造加密货币挖矿用小型芯片。三星声称,SF3将通过允许在同一单元类型内,使用不同的环栅(GAA)晶体管纳米片通道宽度,以进一步提供更多功能性设计。
4、ASML中国总裁:中国已有近1400台ASML光刻机
据媒体报道,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在访谈中表示,到2023年底,ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。
沈波表示,去年ASML全球净销售额达212亿欧元,预计2023财年,公司全球销售额增长30%,将达270余亿欧元。据ASML最新季报,明后年全球半导体行业将企稳。预计到2025年,现有晶圆厂产能将会增加并有新的晶圆厂投入使用,半导体设备行业将会迎来比较大的增长,迎来需求的“高潮”。沈波透露,“我们现在对自己产能的判断,目标是在2025年底或2026年初,具备每年500台-600台深紫外(DUV)的设备产能。”
5、需补税1800亿?富士康紧急辟谣
11月2日,富士康科技集团发布声明称,近日网传“富士康被彻查,需补税1800亿,约2万足球场的土地将被收回国有”等内容的消息,均为谣言。
该声明称,个别自媒体无端造谣生事,肆意捏造事实,在多平台渠道发布失实内容,严重侵害了集团声誉,造成了极大负面影响,性质极其恶劣。富士康始终坚持合法合规经营,目前,集团生产经营正常有序。集团将保留对相关谣言发布者和账号追责的权利。