紧跟AMD、苹果传英特尔下单台积电2纳米
台积电2纳米制程预计今年下半年进入量产,除了日前公开相关下单讯息的AMD,以及一般预期将采用的大客户苹果之外,市场最新传出英特尔也已加入台积电2纳米制程首批客户行列,而这三大客户的产品也正在台积电新竹厂区紧锣密鼓准备试产,以利后续调整良率。
针对上述传闻,台积电表示,不评论市场传闻,也不评论特定客户业务。英特尔对于相关消息也不予置评。去年二月时任英特尔执行长的基辛格证实,英特尔将把两款处理器关键的运算芯片块(Compute tile)首度交给台积电生产。
传三星停产DDR4 6月截止订单
近日,业界消息指出,三星电子已正式通知客户,将于2025年4月终止1z制程8Gb LPDDR4存储器生产(EOL,End of Life),并要求客户在6月前完成最后买进订单,预计最迟于10月前出货。
厂商分析,主要是因为中国大陆低端手机用的LPDDR4订单被当地存储厂拿走,三星未来将聚焦LPDDR5以上的高端产品。业界人士称,三星有意停产部分DDR4产品主要有两个原因,一是,集中资源于获利能力更高的HBM与DDR5产品线,二是中国大陆存储厂持续扩张DDR4产能导致市场竞争加剧与利润压缩。
英特尔详细展示Intel 18A工艺:性能提升25%,功耗降低36%
英特尔将在即将举行的2025年VLSI研讨会上详细介绍其Intel 18A制造技术(1.8nm)相对于Intel 3(7nm)工艺的优。正如预期的那样,新的生产节点将在功耗、性能和面积(PPA)指标方面带来显著提升,从而为客户端和数据中心产品带来切实的优势。
英特尔声称,与采用Intel 3工艺技术制造的相同模块相比,Intel 18A制造工艺在相同电压(1.1V)和复杂度下,性能提升25%,在相同频率和1.1V电压下,功耗降低36%。在较低电压(0.75V)下,Intel 18A工艺性能提升18%,功耗降低 38%。此外,与Intel 3相比,Intel 18A工艺的面积缩小率始终达到0.72倍。Intel 18A制造技术是该公司首个采用环绕栅极(GAA)RibbonFET晶体管并采用PowerVia背面供电网络(BSPDN)的节点,这两项特性使其在PPA方面具有显著优势。
马斯克进军半导体封装
业界传出,除台积电、英特尔外,SpaceX 也挥军面板级封装,预计将自建700X700 毫米的封装产线,为面板级封装产业注入强心针,也是目前市面上量产的最大尺寸,预计今年就会向设备厂商拉货。
业界指出,SpaceX 采用的技术为扇出型面板级封装(FOPLP) 技术,可整合更多不同晶片,并直接在面板上进行重布线层(RDL),但与台积电所瞄准的线距2um 的方向不同,其产品线距多在15um 以上,尺寸也远大于现阶段市面上常见的510X515、600X600 与310X310。业界认为,马斯克向来偏好掌握自有技术,就如同特斯拉先前就曾自行开发TPAK 封装技术运用在自家电动车上,甚至推进至下一代,主要就是透过封装技术升级,降低散热、提高性能与缩小体积等,也将同一套概念套用在SpaceX 上。