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近日，博来纳润自主研发的“碳化硅CMP耐氧化抛光垫”与“8英寸高平坦化碳化硅精抛液”双双通过省经信厅的严格评审，正式获得省级工业新产品证书（证书编号：202506A03163-20251201-04981、202506A03726-20251203-04977）。这是对公司持续创新与技术实力的高度认可，更标志着我司在碳化硅衬底CMP材料领域打破垄断、自主创新的重大突破，为推动产业链安全与高质量发展注入了强劲动力。
省级工业新产品认定旨在鼓励企业通过技术创新开发具有自主知识产权、技术含量高、经济效益好的新产品，推动产业升级与高质量发展。本次获评，不仅代表产品在技术性能、质量水平、市场前景等方面达到先进水平，更体现了企业在研发体系、生产工艺与质量管理方面的综合实力。
关于博来纳润
浙江博来纳润电子材料有限公司成立于2021年12月，致力于为半导体平坦化工艺提供材料整体解决方案。自主研发的半导体CMP材料产品，涵盖了“CMP磨料+抛光液+抛光垫”三大类，形成CMP材料整体解决方案的产品矩阵。公司产品广泛应用于集成电路制程（芯片制造、封测）、硅衬底制造的CMP工艺、碳化硅衬底制造CMP工艺，以及其它泛半导体材料的CMP工艺，为行业客户从磨料、抛光液和抛光垫多角度助力客户解决CMP工艺问题，依靠可靠的工艺性能和稳定的产品质量，赢得了众多行业客户的青睐。
公司先后获得浙江省科技型中小企业、浙江省创新型中小企业、浙江省专精特新中小企业、高新技术企业等荣誉资质；荣获中国创新创业大赛浙江省新材料行业决赛一等奖、第三届全国博士后创新创业大赛铜奖等。
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