在网上看到一个有意思的问题：去荷兰的ASML公司偷一个7nm工艺的光刻机有什么困难？去台积电偷会不会更简单些？
这位朋友真是咸吃萝卜淡操心，可能是神偷类的电影看多了。
其实去哪偷不重要，重要的是你能否将光刻机组装起来。
就在前不久，荷兰阿斯麦的第一台2nm光刻机交付给了Intel。
这台机器的成本超过3亿美元，组装起来比卡车还大，被分装在250个单独的板条箱中进行运输，其中包括13个大型集装箱。
可能大家不知道，EUV光刻机的内部有多复杂？
这台机器重达180吨，零部件超过10万多个，光安装调试就需要一年左右。
目前，全球光刻机市场主要由荷兰阿斯麦、日本尼康和佳能三家把持。
特别是顶级EUV光刻机市场，阿斯麦更是一家独大。
在芯片制作过程中，如果使用传统DUV光刻机，一片晶圆上需要曝光多达数百个单元。
但EUV光刻机就不一样，由于采用极紫外光源，只需一次曝光就够了。
据悉，其一个小时能曝光超过300片硅晶圆，同时还能保证每一次曝光量都是相同的。
正因如此，EUV光刻机对技术要求极高，体积十分庞大，内部也极其复杂。
重量达到180吨，精密零部件超过10万多个，4万个螺栓，4000多条线路，超过2公里以上的软管线。
单次发货需要动用40个货柜、20辆卡车以及3架波音飞机才能运完。
从部件构成上看，主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等11个模块，这些模块必须协同工作，以确保光刻机的高效和精准。
光刻机里85%以上的部件，都来自全球超过5000家供应商。
比如里面用到了德国的蔡司镜头，日本的特殊复合材料，瑞典的精密机床，美国的先进控制软件、光源等，个个都是业内顶尖厂商。
整个光刻机里面，荷兰腔体和英国真空占了32%，美国光源占了27%，德国光学系统占了14%，日本的材料占了27%。
因此，可以说EUV光刻机是集全球最顶尖的水平才弄出来的产物。
当一台EUV光刻机到达厂房后，要先将零部件依次组装好，然后进行相关调试。
其中，每个镜面、透镜和其他光学元件都需要精确校准，以确保光束能精确地聚焦在晶圆上。
在安装和初步调试后，光刻机还需要进行一系列的性能测试，以验证其是否满足所有操作规范，比如曝光精度够不够，曝光次数行不行。
这些林林总总的安装测试，统统算在一起的话，差不多需要一年的时间。
所以现在想想看，到底是偷光刻机难？还是组装一台光刻机难？
等你点蓝字关注都等出蜘蛛网了
