C-AFM应用
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导电原子力显微镜(CAFM)是外加一组电流放大器于显微镜，然后利用导电探针接触模式扫描样品，在取得高度讯号的同时，若是样品表面有电流产生，探针也会取得此电流讯号，因此我们可以利用Conductive AFM的扫描，同时得到扫描区域得高度形貌图及电流分布图像，更可进一步的于特定的点上取得I-V 曲线。
CAFM分析手法：在做芯片失效分析中扮演着重要角色，针对失效热点区域及SB、SBL、WL、SWL、MWL、FBL、MBL、PBL、DFT等failure mode去层看VC无明显异常时，可在Via层及Contact层做C-AFM量测，进而精准测出PN结电流大小来推断是否有漏电及高阻情况。
半导体失效分析中常规CAFM检测分析可以快速锁定hard fail问题，如open或short问题。但不免有些soft fail，如轻微高阻，这就需要收集多种不同电压下的数据来分析。那么布鲁克AFM设备上就有D-CUBE（多维纳米电学表征） CAFM功能，在不同DC电压下收集电流强弱情况，最终以“全景式”寻找缺陷。
D-CUBE CAFM简介
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每个像素的I-V波普：
CAFM图像受到样品电压的影响：只有在多种样品电压下获取图像，才能获得“全景图”。
I-V测量还揭示了其他信息，如导电类型（欧姆，非欧姆，肖特基......）和势垒高度。
应用案例
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如下是从布鲁克培训材料内截图的真实应用案例：
D_cube CAFM图内的任意一点均有I-V curve数据图，而正常CAFM图仅有一个电压的点电流图。
三氧化二铁电极分析
图1：三氧化二铁电极D-CUBE CAFM分析图
Particles 分析
图2：Particles D-CUBE CAFM分析图
RAM PN junctions分析
图3：RAM PN junctions D-CUBE CAFM分析图
我们一直在努力将此技术不断提升，为晶圆厂、设计公司及反向工程分析公司提供更多有效的电学表征结果。
本期寄语
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每一个新的开始都来自某个开始的结束。市场从没有眼泪，只有战斗和血性。加油2025！
公司介绍
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掺流科技（上海）有限公司是一家高科技第三方实验室，致力于高端的精流分析和技术研发；专注于器件级别的掺杂/载流子多尺度的结构分析；服务于中国半导体功率器件、IC集成电路产业，与此同时，不断拓展针对第三代半导体工艺分析、结构分析、失效分析等技术服务能力。
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