SRAM表面去层推进式做SCM表征
扫描电容显微镜(SCM)提供了一种直接测试样品中载流子浓度二维分布图像的方法,可以有效分辨纳米尺度下半导体器件中N型和P型掺杂区域及其界面。
SCM是基于接触模式下的测试方法,通过超高频(1GHz)的探头读取针尖-样品之间的微分电容dC/dV,同时,通过反馈电路调整输出信号dV,确保输出的信号维持在一个稳定的dC/dV设定值。因此,SCM是高频电容Sensor测电容随电压变化情况来反应载流子掺杂浓度和掺杂类型等的。
SCM分析手法:在芯片工艺前段失效分析、设计改进掺杂剂分布、逆向工程及产线监控中具有重要的作用。其利用高空间分辨率对半导体器件进行电学表征,鉴于其非破坏性的扫描能力和高精度的纳米特征量测,是表征半导体器件的有力方法。
半导体失效分析及数据收集中,常用的方法为截面制备扫描,今天我们尝试用SRAM样品,表面去层推进式做SCM表征,详见如下:
1. SRAM表面去层到Poly-1
2. SRAM表面去层到Poly-2
3. SRAM表面去层到Poly-3
4. SRAM表面去层到Poly-4
5. SRAM表面去层到AA-1
6. SRAM表面去层到AA-2
7. SRAM表面去层到AA-3
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