华南理工与南京高光深化产学研合作 共建等离子体技术联合实验室
9月11日，华南理工大学校长、中国工程院院士唐洪武带队赴南京高光半导体材料有限公司（简称“南京高光”）开展产学研合作调研，并出席双方二期战略合作协议签约仪式。此次合作标志着校企双方从“物理相加”迈向“化学相融”，聚焦新型显示关键技术攻关，助力行业高质量发展。
深入产线考察 共研核心技术
在南京高光董事长钱超等管理层陪同下，唐洪武院士一行实地考察了企业生产车间和实验室，重点观摩G8.6H和G6H薄膜封装掩膜版的张网、检测、清洗及全自动化镀膜产线运行情况。双方围绕镀膜在线监测系统、精准沉积控制策略等核心技术展开深入研讨，华南理工专家团队在现场提出了多项具有针对性的技术优化建议。
签署二期协议 共建联合实验室
座谈会上，双方回顾了自2018年以来的合作成果，并就未来深化方向达成共识。会议期间，华南理工与南京高光正式签署共建“等离子体技术应用研究联合实验室”合作协议，推动合作进入更深层次、更广领域的阶段。
钱超表示：“华南理工学术底蕴深厚、科研实力突出，希望双方在关键技术联合攻关、创新产品研发、科技成果转化及高层次人才培养等方面实现新突破。”
唐洪武指出：“校企合作是推动高校科技成果走向市场、实现科技自立自强的关键路径。此次深化合作是一个新起点，期待共同打造产学研协同创新的示范样板。”
多年协作结硕果 国产化实现突破
双方合作始于2018年，由南京高光负责金属掩膜版研发，华南理工肖舒副教授团队主攻TFE CVD掩膜版镀膜技术。合作以来，先后实现多项关键进展：
- 2020年6月，首条TFE CVD Mask镀膜生产线投产；
- 2022年共建“柔性显示掩膜版研发联合实验室”；
- 2024年在华南理工国家大学科技园顺德园区建成中试中心；
- 2025年设立“研究生联合培养基地”，并启动第二期“等离子体技术应用研究联合实验室”建设。
合作期间，双方成功完成G6h TFE CVD Mask国产化，并实现G8.6h CVD Mask从0到1的产品突破。
肖舒副教授表示：“团队与高光已建立高度互信的高效协同机制。下一步将聚焦柔性显示领域，特别是在高端镀膜装备相关的等离子体技术方面，依托中试平台联动，全力推进关键技术突破与装备国产替代。”
构建闭环模式 助力可持续发展
华南理工大学副校长林艺文及相关职能部门负责人介绍，学校近年来致力于构建全要素集聚的科技创新与成果转化新范式。与南京高光的合作正是该模式的典型实践——以产业需求为导向，推动基础研究成果精准对接企业技术难题，实现科研反哺学科建设与人才培养。
南京高光技术团队反馈，企业在快速发展中面临“技术高壁垒”与“人才高需求”的双重挑战，通过与华南理工的深度协同，有效破解了技术创新与人才支撑瓶颈。
双方探索形成的“产业需求牵引—核心技术攻关—产业反哺科研”闭环合作模式，已取得显著产业化成效。钱超强调：“科技创新不再是‘选择题’，而是关乎企业生存发展的‘必答题’。我们将携手华南理工穿越周期，实现可持续健康发展。”