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【产品篇】OES终点检测系统
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【产品篇】OES终点检测系统
上海车仪田科技有限公司
2024-11-15
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导读:半导体设备光电传感分析零部件和子系统
OES(
Optical Emission Spectroscopy
)光学发射光谱法终点检测系统通过分析刻蚀过程中反应物或生成物的特征光谱强度变化来判断是否到达刻蚀终点。系统包含采集光谱变化趋势的逻辑和判断终点的算法,集成到等离子体刻蚀设备上,作为监测和控制工艺过程的关键手段。
OES终点检测系统主要应用于
Etch刻蚀设备、Strip去胶设备、IBE离子束刻蚀设备
,具有等离子体启辉检测、全光谱分析、制程监控、内置OS和算法等特点。
OES终点检测系统
【声明】内容源于网络
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上海车仪田科技有限公司
专注于研发制造半导体设备专用光电控制子系统,在等离子体光谱诊断、干涉光谱分析、傅立叶光谱分析、吸收光谱分析、辐射测温、荧光测温、涡街流量、质谱分析、声波分析等技术领域提供产业化应用产品。
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专注于研发制造半导体设备专用光电控制子系统,在等离子体光谱诊断、干涉光谱分析、傅立叶光谱分析、吸收光谱分析、辐射测温、荧光测温、涡街流量、质谱分析、声波分析等技术领域提供产业化应用产品。
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