“大”口径超“精”密中国科学院长春光机所亮相SEMICON China 2026 期待您莅临指导- 大数跨境

“大”口径超“精”密中国科学院长春光机所亮相SEMICON China 2026 期待您莅临指导

长光集团

2026-03-16

导读：SEMICON China 2026（上海国际半导体展）将于2026年3月25日至27日在上海新国际博览中心举行。

SEMICON China 2026（上海国际半导体展）将于2026年3月25日至27日在上海新国际博览中心举行。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称“中国科学院长春光机所”）采用“1+N”的方式，以“研究所重大科研成果展览展示+长光企业独立参展”的形式首次亮相该展会，高水平全面展示我所在半导体核心装备领域的扎实根基和发展潜力，敬请各位领导和嘉宾莅临展位指导。

在N1馆1427号展位，我所将展出高精度长程碳化硅气浮导轨、高洁净高稳定离子源、超小尺寸磁流变抛光轮、超精密磁流变抛光设备、紫外系列镀膜产品、晶圆/探针相机、高精度深紫外暗场检测物镜、GODAS通用光学设计分析软件等涵盖半导体材料、加工、镀膜以及量检测领域的多款前沿科技成果。

【半导体核心装备科技成果展示】

（1）高精度长程碳化硅气浮导轨

以反应烧结碳化硅陶瓷为主，可实现无摩擦、长行程、纳米级定位。比刚度为传统铝合金材料的5倍、热膨胀低至2.4ppm/K，行程可达1.5米，单轨平面度优于1微米，组合式多层导轨平行度优于2微米，同时具备抗热震、耐磨性好、共振频率高，稳定性好等特点。

应用领域：长行程超精密工件台、掩模台、晶圆缺陷检测、量测设备、AOI、离子注入机的精密运动平台、FOUP传输平台、后道封装键合、封装检测等场合。

（2）高洁净高稳定离子源

针对皮米级精度离子束加工需求，开发了高洁净高稳定性离子源。该离子源具备超高材料去除分辨率，可实现亚纳米级精准材料去除；采用零溅射污染设计，确保加工过程中镜面无外来原子沉积；100小时连续运行束流稳定性优于98%，保障多轮迭代修形的精度传递可靠性。支持毫米级细束径至100mm宽束径全参数连续可控，兼顾局部精修与全口径高效修形。

应用领域：超精密光学制造、高精度离子束刻蚀、空间光学及高功率激光光学等。

（3）超小尺寸磁流变抛光轮

基于磁流变抛光技术，将磁流变抛光轮由工业标准化向小型化推进，旨在解决复杂曲面光学元件跨尺度皮米量级超精密抛光难题。超小磁流变抛光轮凭借其小尺寸去除函数及柔性可控抛光特性，能够实现面形误差高效率收敛，是高端光学制造领域关键工具。

（4）超精密磁流变抛光设备

磁流变抛光设备可实现面形精度RMS优于2nm（极限面形精度RMS可达0.5nm），表面粗糙度Rq优于0.5nm，去除函数稳定性优于90%，配备多种抛光轮并支持快速换装，加工效率优异。

机床式磁流变抛光平台具备高稳定性与超高加工精度，可适配口径50～400mm的多种型号抛光轮，兼容不同材质适用的磁流变液，支持多样化装夹方式。设备集成自动对刀功能与专用加工算法，人机交互界面简洁直观，搭载智能化监测与预警系统，并实现与五轴联动模式的高度融合，可满足各类光学元件的高精度加工需求。

应用领域：高精度镜头元件、高能激光元件、相位板、航空航天领域光学元件等。

（5）紫外系列镀膜产品

紫外系列产品采用先进的高精密光学薄膜技术和特种材料制成，能够实现对特定紫外线波段的选择性透过或精准阻挡。通过精密的膜层设计和图案化处理，精确控制紫外线的传输路径与截止深度，主要应用于半导体检测设备等。

应用领域：半导体光学检测、光通信及图像传感器等领域，有助于降低图案失真及误差，检测半导体材料杂质、缺陷，提高光通信系统的传输容量。

（6）晶圆/探针相机

国产全自动探针台专用晶圆/探针相机，是半导体晶圆级测试视觉系统的核心成像部件，可满足高端探针台高速自动化与高精度定位需求。晶圆相机面向4-12英寸晶圆，专注全自动上料、全局定位、缺陷预检、晶圆Map生成与芯片Pad粗对位；探针相机聚焦微观精密成像，实现探针针尖与芯片Pad微区对准、针形检测、接触力监控及扎针过程实时观测，为微米级扎针精度提供保障。产品自主研发，攻克高分辨、大NA系统制造与装配难点，提升产品化集成效率，全面适配国产探针台，支撑芯片测试全流程自主可控，助力半导体检测设备国产化替代。

应用领域：半导体在线检测、国产全自动探针台等。