据了解，目前为止，只有日本和荷兰是两个可自主研发光刻机的国家，投影光刻机的研发生产成为了国家急需攻克的重点难题。随着“中国制造2025”和互联网+的落地实施，投影光刻机项目于2021年8月4日立项，项目位于北京经济技术开发区，建筑面积109930平方米，该项目的建立将从根本上解决我国IC制造投影光刻机曝光光学系统及高端精密光学装备的产业化问题。
大航有能作为国企，一直紧跟国家战略步伐，积极参与国家战略发展区域建设项目工程，在光刻机项目成立之初就对项目进展高度关注，及时成立项目小组，研判项目技术方案。在报价合同给予充分肯定后，经过为期一周的评选，我司在产品技术研发和生产质量上以较大优势击败了众多竞争对手，获得了业主的高度认可，选择我司作为其供应商，为其供应高压柜KYN28A-12、低压柜MNS2.0、直流屏SKY-IP-U220/65。
