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【声学楼年会优惠票倒计时11天】哈曼新专利:通过扩展后腔体提升MEMS麦克风信噪比与低频性能

【声学楼年会优惠票倒计时11天】哈曼新专利:通过扩展后腔体提升MEMS麦克风信噪比与低频性能 声学楼论坛
2025-10-15
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导读:哈曼国际工业公司(以下简称“哈曼”)于2025年10月8日公开了一项专利(EP4629663A2),提出了一种


哈曼国际工业公司(以下简称“哈曼”)于2025年10月8日公开了一项专利EP4629663A2),提出了一种通过“外部附加后腔体(Back Volume)”提升MEMS麦克风性能的系统级设计方法。这项发明主要面向MEMS麦克风在信噪比(SNR)和低频截止性能方面的局限,提供了一种在麦克风模块层面增加后腔体空气容积的结构方案,从而提升整个麦克风组件的声学性能。


专利文件指出,传统的MEMS麦克风通常由基底、MEMS换能器以及印刷电路板(PCB)组成,外部盖板或壳体包裹其结构。MEMS换能器通常通过声孔与外部声场连通,内部形成前腔(Front Volume, FV)与后腔(Back Volume, BV)。后腔体积对麦克风的信噪比和低频响应有直接影响,体积越大,SNR 越高,低频响应越好。然而,常规MEMS麦克风封装体积受限,后腔空间往往不足。

Fig1A:底端口 MEMS 麦克风子组件 100。展示最经典的“芯片-基底-盖板”封装结构;声音从基底声孔 110 进入,后腔 BV 由盖板内部空间形成。

Fig1B:顶端口 MEMS 麦克风子组件 100′。声音从盖板声孔 110′ 进入,前腔 FV 在盖板侧,后腔 BV 在基底侧;BV 明显小于图 1A,直观解释“顶端口 SNR 吃亏”的原因。


哈曼的这项专利设计核心在于:在麦克风模组层面引入额外的空气体积,使后腔(BV)不再局限于MEMS芯片或其封装内部,而通过与PCB或模块外壳相结合的结构延伸得到扩展。


专利中双端口 MEMS 麦克风子组件(sub-assembly 350)括一个带有贯穿声孔(port 110)的基底,一个带有嵌入式空腔的PCB,以及一个带有第二声孔(port 110′)的盖板。MEMS换能器安装在基底上,位于第一声孔和PCB空腔的正上方。盖板覆盖在换能器之上,与基底共同形成前腔(FV)。基底中的第一声孔与PCB内部空腔形成后腔(BV),其体积大于前腔体积。通过增大BV,麦克风组件的信噪比和频率响应得到改善。


该设计可以构成不同形式的麦克风模组结构。专利文件提供了三种典型结构方式:


第一种形式是在PCB下方安装第二盖板(second lid 408),该盖板与PCB之间形成空腔(cavity 402),通过基底的声孔(port 110)与MEMS换能器背部相通。如下图5所示,这一空腔与换能器背面空气连通后形成扩展的后腔体积,从而改善信噪比。

Fig-5:带第二盖板408的模组方案400。在主板 206 背面再焊一只金属盖 408,形成外部大腔 402 → 经基底声孔 110 与 MEMS 背部连通,显著增大 BV;同时保留顶端口最短声路 d2,兼得“高 SNR + 平滑频响”。)


第二种形式是在PCB内部直接形成嵌入式空腔,如下图6所示。专利描述了 PCB 通常由 4 至 6 层 FR4 材料构成,可通过在不同 FR4 层切割不同形状和尺寸的孔,再将这些层堆叠在一起形成空腔(cavity 402),实现这种设计,空腔通过声孔与换能器背部连通,提供附加的空气体积。同样,这一结构能提升后腔体积,从而增强 SNR 与低频响应。

Fig-6:PCB 内嵌腔体方案 500。直接利用 4-6 层 FR4 的层间空腔当外部 BV,无需第二盖板,降低高度与成本;腔体形状/大小通过层间开孔自由设计,功能与图 5 等同。


第三种形式是利用麦克风外壳(housing 202)构成后腔。PCB与外壳的内部壁体共同围成密封腔体,该腔体通过声孔与MEMS换能器背部连通。这样形成的后腔通常具有更大的空气容积,因此能够进一步提升SNR表现。

Fig-7:机壳围合腔体方案 600。主板 206 与机壳侧壁 208b-208d 一起围成密封大腔 402 当 BV,无需额外金属盖,最适合车载多麦克风阵列;BV 最大,SNR 提升最显著。)


Fig-8:用于 ANC 的低频增强梯度麦克风组件 1000。展示“单 MEMS + 双声入口”梯度结构;通过封住第二入口 1007/1015 把原梯度麦变成全向麦,并把第二通道空气体积并入 BV,30 Hz 灵敏度提升 2 dB。

Fig-9:两种密封位置对应的频响曲线 1200。曲线 1204(封在 1007 处)比曲线 1202(封在 1015 处)在 30 Hz 高 2 dB,直观证明“外部 BV 越大,低频截止越低”。


专利文件还提出了可调节后腔体积的设计,即“可变后腔(Variable Back Volume, VBV)”。这种结构主要用于主动降噪(ANC)系统中,以获得更好的低频响应和灵敏度一致性。VBV的核心是通过在第二声孔(second sound aperture 1007)处设置密封件(seal 1102),实现对后腔体积的调节。

具体方式包括在密封件处注入灌封材料(potting solution 1108),插入滑动塞(plunger 1110),或使用可调螺钉(set screw)以改变密封腔体的空气体积。通过控制注入材料的量或机械调节深度,可以改变后腔内空气量,从而调节麦克风在低频段的响应特性。


Fig-10:可变后腔体积方案 1000′。在图 8 基础上增加“可调”功能——通过针头注胶、螺钉或活塞改变第二通道空气量,实现生产线末端对灵敏度/频响的微调,解决批量一致性难题。Fig-11:VBV 调节后的频响/灵敏度对比 1300。四条曲线显示“空腔灌满” vs “空腔空” 在 30 Hz 差异约 2 dB;两样品间未经调节时差 4 dB,调节后仅 2 dB,量化证明 VBV 可把灵敏度容差减半。


专利中描述的端到端测试方法也体现了该调节机制的实际应用。在生产过程中,可通过对组装完成的麦克风组件进行声学测试,根据测试数据调整灌封材料的体积、调节元件的位置,或挤压、变形第二声孔(second sound aperture 1007)和 / 或第二声学管(second acoustic tube 1014)定义的体积,以获得目标频率响应。这样一来,不同的麦克风单元可在出厂时通过后腔调节实现一致的灵敏度特性。

Fig-13:麦克风组件的调谐流程 1400。端到线生产流程图——先组装 → 封第二入口 → 声学测试 → 根据数据注入灌封材料/调节螺钉或活塞 → 再测试确认,直到达到目标低频响应与灵敏度,实现 100% 在线闭环调谐。


EP4629663A2 还进一步阐述了这种后腔扩展和可变设计在主动降噪系统中的作用。文件中说明,低频截止点的改善对ANC系统至关重要,因为系统通常工作于30至500 Hz范围。通过增加或调节后腔体积,可以实现更低的截止频率和更窄的灵敏度容差,使麦克风在ANC应用中具备更稳定的性能表现。


不同于Knowles通过芯片层面增加硅腔容积(代表方案:SPH0645LM4H MEMS,内置大背腔+声阻抗控制),或Infineon利用背孔声导结构优化低频性能(XENSIV系列麦克风),哈曼的策略更具系统性——它在不修改MEMS芯片的前提下,通过模块级结构工程实现声学性能提升。


总结一下,哈曼的这项专利的核心创新并不在MEMS芯片内部结构,而是在封装与电路层之间利用可控的空气容积实现声学特性调整,具备更高的灵活性和成本优势。尤其在汽车领域,这种通过结构扩展后腔的方式可以无缝集成到多麦克风阵列中,为空间声学传感、语音识别和ANC系统提供统一的调音平台。



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“声学楼”创办于2005年,致力于促进声学领域技术交流与应用。历经多年发展,声学楼已从一个单纯声学工程师交流平台,成长为音频企业上下游多方参与音频技术专业论坛之一,每年还通过举办技术研讨会、年会等活动,搭建起与会的行业供需双方沟通的桥梁。
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