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北理工压电MEMS扬声器新进展:声压级“飙升”,总谐波失真“骤降”

北理工压电MEMS扬声器新进展:声压级“飙升”,总谐波失真“骤降” 声学楼论坛
2026-03-18
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导读:压电MEMS 基于悬臂振膜设计的压电微机电系统(MEMS)扬声器,在电声转换效率与低频声压级(SPL

压电MEMS

      基于悬臂振膜设计的压电微机电系统(MEMS)扬声器,在电声转换效率与低频声压级(SPL)表现上已显现出显著的应用潜力。然而,该结构在首阶谐振频率附近总谐波失真(THD)明显升高,且高频段(10 kHz以上)因谐振频率与带宽限制导致SPL急剧衰减,严重影响音频还原质量。据行业资讯平台报道,北京理工大学谢会开教授团队近期研发出一种基于2.7微米厚度溅射锆钛酸铅(PZT)薄膜的压电MEMS扬声器,其创新结构包含悬臂式振膜与四组双S形驱动单元。该设计通过将悬臂振膜首阶谐振频率设定为3.2 kHz,并在21.3 kHz处通过双S驱动结构引入附加谐振峰,有效解决了高频SPL不足与THD劣化问题。

      在711人工耳模拟器上的测试数据显示,采用1-3 Vpp驱动电压时,双S驱动结构的引入使平均SPL提升23 dB,平均THD降低80%,并在3.2-20 kHz频段内将THD控制在0.6%以下。中高频段的SPL与THD性能均得到显著改善。该研究成果以"SPL and THD improvement of a cantilever-diaphragm piezoelectric MEMS loudspeaker with Double-S actuators"为题发表于《Microsystems & Nanoengineering》期刊,为高保真压电MEMS扬声器开发提供了理论支撑,并拓展了入耳式设备的频响范围。

【器件结构与工作原理】
如图1a所示,该压电MEMS扬声器由四组双S驱动单元(每组尺寸3.8×0.8 mm)与悬臂梁式振膜(长度3 mm)构成,有效振动面积达28.3 mm²。其多层结构自上而下依次为320 nm金/2.7 μm PZT/100 nm铂/2.2 μm硅层。振膜背面采用70 μm厚硅框架增强结构稳定性,双S驱动单元通过四根连接梁与框架相连。驱动单元顶电极分为两组,当施加反相电压时,两组电极产生反向形变,从而驱动整个结构产生垂直位移。3.8 mm的长度设计确保大位移输出,0.8 mm宽度则用于调节谐振模式。

图1 本文提出的压电MEMS扬声器示意图

       仿真分析(图2)表明,双S驱动单元在中低频段呈现活塞式振动模式,并在21.3 kHz处激发额外高频谐振,两种模式的协同作用显著提升了宽带SPL性能。电极配置(图1b)显示,悬臂振膜采用独立电极(电极1)实现d₃₁模式弯曲运动,双S驱动单元顶电极分为正负两组(电极2+/2-)。通过组合激励电压,该器件可实现三种工作模式:仅驱动悬臂振膜(模式A)、仅驱动双S单元(模式B)、同步驱动两者(模式A+B)。

图2 压电MEMS扬声器的有限元模型仿真

【制造工艺】

      器件基于绝缘体上硅(SOI)晶圆制备,包含2.2 μm顶层硅、1.1 μm埋氧层及400 μm硅衬底。工艺流程依次为:沉积100 nm ZrO₂绝缘层与铂电极层,溅射2.7 μm PZT薄膜(实测d₃₁=-55 pC/N),最终形成多层结构(图3)。器件光学图像与扫描电镜照片(图4)验证了制造精度。

图3 压电MEMS扬声器的制造工艺流程

图4 压电MEMS扬声器照片及表面轮廓图

【声学表征】

       测试系统(图5a)由计算机、声学分析仪(AAI-2718)、711人工耳、消声箱及待测器件组成。分析仪可输出180°反相激励电压,并接收标准麦克风信号。在400 Hz-20 kHz频段内,分别测试1/2/3 Vpp驱动电压下三种工作模式的SPL与THD性能。结果显示(图5),双S驱动结构的引入使中高频SPL提升23 dB(1 Vpp激励),THD降低至0.6%以下。

图5 耳模拟器环境下压电MEMS扬声器的声学表征

频响曲线(图6)表明,该器件在SPL≥80 dB且THD≤3%、以及SPL≥100 dB且THD≤1%两种性能指标下,带宽均优于现有同类产品。

图6 本文提出的压电MEMS扬声器与当前最先进的压电MEMS扬声器在耳模拟器环境中的频率范围对比


【创新价值】
       相比传统悬臂振膜设计,双S驱动结构在优化中高频SPL与THD方面展现显著优势,同时扩展了有效带宽。该技术不仅可提升现有悬臂式扬声器的音质,更有望替代高成本平衡电枢单元,推动高保真压电MEMS耳机产业化进程。研究提出通过在基础MEMS扬声器周围集成双S驱动单元或类似结构,可实现全频段性能优化,为高端MEMS扬声器开发指明了可行路径。


论文链接:

https://doi.org/10.1038/s41378-025-01031-0

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“声学楼”创办于2005年,致力于促进声学领域技术交流与应用。历经多年发展,声学楼已从一个单纯声学工程师交流平台,成长为音频企业上下游多方参与音频技术专业论坛之一,每年还通过举办技术研讨会、年会等活动,搭建起与会的行业供需双方沟通的桥梁。
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