近日，立导科技-川大团队获得CVPR2023——工业质检挑战赛(1st workshop on Vision-based InduStrial InspectiON) 中的缺陷图像生成赛道第1名 ！
CVPR（IEEE Conference on Computer Vision and Pattern Recognition的缩写）作为计算机视觉和模式识别领域的世界级顶级会议，不仅是学者们展示前沿科技成果的学术会议，也是企业界探索前沿应用的一大平台。
每年入选CVPR的大部分论文来自人工智能领域的头部科技公司、高校和科研院所，代表着计算机视觉领域的领先水平，一直以专业、权威和高含金量著称。
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现代制造业数据丰富，但标签很少，获取带标注的缺陷数据既困难又昂贵，而且需要很长时间，这使得基于视觉的工业检测不同于一般的计算机视觉任务，缺陷生成技术在工业检测任务中非常重要。
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立导科技参加的缺陷图像生成比赛中，在固定检测算法的情况下，通过有限的带标注数据和大量的无标注数据来生成更多的带标注的缺陷数据，以此来尽可能的提高缺陷检测性能。
立导科技通过校企合作，探索了缺陷生成任务的不同技术路线，结合AI领域最新的技术，将对抗生成模型和扩散生成模型引入到工业缺陷生成任务，实现工业缺陷数据的受控生成，据此斩获工业缺陷图像生成赛道 (Track2) 第1名。
此次取得佳绩，既体现了立导科技深厚的技术积累，也彰显了参赛团队技术创新的能力。该技术通过降低模型的数据依赖和缺陷数据增强，充分利用过往的缺陷，生成真实多样的新缺陷训练样本，实现项目数据的快速扩充，帮助用户高效完成模型迭代，更好地解决AI质检中数据收集慢和标注成本高等痛点。
该竞赛中的技术集成于立导科技自研的HySmart平台上，在消费电子、汽车电子、泛半导体、精密传感等众多的智能制造垂直场景中批量复用落地。
