该台卷绕式高阻隔膜连续沉积设备，可同时镀制双面PECVD膜层。采用多区域放电多转辊结构，在薄膜上沉积Siox阻隔膜，沉积速率高，质量好。可应用于食品、电子元器件、医疗用品的高档包装。
其工作原理是真空镀膜机在真空状态下，将被镀件置于低气压辉光放电的阴极上，通入适当气体，在一定温度下，利用化学反应和等离子相结合的离化聚合过程，在工件表面获得涂层，而气相物质吸收于工件表面并互相反应，最后形成固相薄膜沉积在工件表面上。
这种成膜优点有：
1、低温成膜，温度对基片影响少，避免了高温成膜的晶粒粗大及膜层与基片之间生成脆相；
2、可制备厚膜，膜层成分均匀，针孔小，致密，内应力小，不易产生微裂纹；
3、等离子体对基片有清洗作用，增加了膜层的附着力；
4、可以在不同基片上制备各种金属膜，非晶态无机物膜，有机物聚合膜。
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