近年来，随着电子和控制技术的不断发展，脉冲技术逐渐应用到PVD中来。蒸镀尝试采用激光脉冲作为蒸发源，这种技术被称为PLD(Pulsed Laser Deposion)，采用高能激光脉冲，照射被蒸镀材料，使材料汽化蒸发，获得高能离子。
溅射技术和多弧离子镀也都采用脉冲方式。脉冲的引入能够稳定溅射过程，通过加入一个频率为20-200kHz的脉冲，电弧在溅射中可以被完全抑制，因此，有些不稳定的反应溅射就能顺利地进行。如在氩气和氧气混合气体中，采用铝靶进行沉积时，引入脉冲后，溅射反应可以在一种长时间的、高速率的、稳定的状态下完成。
脉冲电源的引入，不仅可以显著提高工艺的稳定性，而且可以增加粒子轰击基片的能量。首先，脉冲的引入会产生振荡等离子体，等离子体的不平衡性（在阴极附近电子和离子的振荡不同步）使接地的基片获得额外的偏压；其次，在减小脉冲占空比的同时，提高脉冲电源的功率可以使等离子体的密度和电子温度增大和升高，对所有类型的基片（导电或不导电）的轰击效果都增强；再次，脉冲的引入使二次电子受到的磁屏蔽作用更加强烈，其生存时间增加，增大了中性原子电离的概率，因此会大幅度地增加等离子体的密度。
离子镀膜技术中，采用脉冲方法的优点不仅可以调节脉冲频率控制沉积速率，而且如果结合多种被蒸发物质，还可以方便地获得多层复合膜，调节脉冲参数，还可以使基片在很低的温度下进行镀膜，避免破坏基片的原有组织。
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