为了使薄膜在基体上获得良好的附着力，可采用以下措施：
1、 保证基体表面的清洁度。采用适当的基体镀前处理工艺，去除基体表面的污染物质，活化基体表面，使基体表面在镀膜时形成一个附着性强的界面区。
2、 通过基体加热或离子辅助沉积技术，使膜材物质扩散进入基体，以便获得一过渡层。
3、 由于附着强度不足，以及由于形貌、力学性能、界面区的缺陷密度和界面所承受的应力过大，会导致薄膜应力和防止沉积的薄膜从基体表面剥离，在基体与所镀薄膜之间引入与镀层和基体材料都能有效结合的中间过渡层，来增强两者的结合。中间过渡层的成分、结构和厚度可以自然形成，也可以人为地造成，通过它来调整应力、改进附着性。中间层不能影响薄膜材料最终的物理性能，而且中间过渡层可以是多层的。
4、在线膨胀系数失配的基体上沉积薄膜时，可采取一种新的表面处理工艺——将基体表面刻蚀一些微观的图形，然后再沉积薄膜，形成复合膜，可减少应力。同时由于增加接触面积，从而增加附着力。
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肇庆市振华真空机械有限公司
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