真空等离子清洗机原理
等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光。等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效果。
真空等离子清洗机功能
大幅提高表面的润湿性能，形成活性的表面
去除灰尘和油污，精细清洗和去静电
通过表面涂层处理提供功能性的表面
提高表面的附着能力
提高表面粘接的可靠性和持久性
真空等离子清洗机应用
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘 和力。
真空等离子清洗机优点
环保性：等离子体作用过程是固相干式反应，不消耗水资源，无需添加化学药剂。
广适性：不分处理对象的基材类型，均可进行处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料。
功能强：仅涉及材料浅表面（100-1000A），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能。
低成本：装置简单，易操作维护，可连续运行，清洗成本大大低于湿法清洗。
工艺可控：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行质量控制。
（振华真空免费提供等离子清洗机实验与技术支持，欢迎来电详询！）
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