蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。镀膜厂最常用的蒸发源主要有电阻加热和电子束加热。

电阻式蒸发源的材料应选择熔点高、蒸气压低、不与被蒸发材料反应、无放气现象和其他污染、具有合适的电阻率等性能的材料。通常选用难熔金属W、Mo、Ta等。石墨和合成导电氮化硼也是重要的电阻蒸发源材料。石墨作蒸发源材料时应选用高纯度、高密度的石墨。合成导电氮化硼是近年来广泛采用的新型蒸发源材料,它耐熔融金属的腐蚀性和抗热冲击性能优良,对膜层的纯度影响最小,但成本较高。用这些金属做成形状适当的蒸发源,让电流通过,从而产生热量直接加热蒸发材料。

有时很多材料不能用电阻加热的形式蒸发,例如常用于可见光和近红外光学器件镀膜的绝缘材料。在这种情况下,必须彩用电子束加热的方式。电子束加热所用的电子枪有多种类型可供选择。多坩埚电子枪可采用一个源对多种材料进行蒸发,这种枪在镀制多层膜且膜层较薄的工艺中应用效果很好。当需要每种镀膜材料用量较大,或每个源都需要占用不同的位置时,可以选用单坩锅电子枪。电子枪所用电源的大小更多地取决于蒸发材料的导热性,而不是其蒸发温度。电源功率一般在4-10KW之间,对于大多数的绝缘材料,4KW就足够了;而如果想达到很高的沉积速率,或在一个很大的真空室内对导热材料进行蒸发时,则需要10KW以上更大功率的电源。
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