多弧离子镀硬膜设备
功能特性
1.采用先进的扫描电磁＋永磁技术增强弧斑运动速度和分裂速度，减少熔滴，增强金属蒸汽和气体离化。
2.提高等离子能量进而提高离化率。和国外技术相比，我们通过辅助阳 极的优化设计，弧光增强的辉光放电刻蚀技术可靠高效，不会出现传统弧源那样在刻蚀时偏压经常打火现象。
3.磁场充分拓展并覆盖整个镀区，镀区等离子体完全磁化，在正交电磁 场作用下，增加等离子密度，提高金属中性原子和气体的离化率，进而提高膜层生长速度和膜层质量。
增强等离子体、旋转扫描运动冷阴极、细化颗粒、绕射性增强、膜层致密，溅射距离远、扫描范围广更好的均匀区，能量高，结合力提高。
可调节距离引弧阳极，不用停机维护；
反转轨道式更换维护冷阴极结构。
应用范围
各种金属氮化物陶瓷涂层及金属涂层适用行业，工具、模具、金属零件及其他高质量纳米涂层
