SiOx，纳米二氧化硅，是在PET、PA、PP等基材上镀的薄层硅氧化物，它不仅有好的阻隔性，阻隔性几乎不受环境湿度和温度变化的影响，有极好的气环境适应性。SiOx镀膜有高阻隔性、高微波透过性、透明性，它的软包装适用于微波加热食品，也可制成饮料、油脂食品、食用油的包装容器，解决了其他包装材料可能带来健康问题的难题，未来将会是重要的包装材料。
振华真空生产的卷绕式高阻隔膜连续沉积设备，可同时镀制双面PECVD膜层。采用多区域放电多转辊结构，在薄膜上沉积Siox阻隔膜，沉积速率高，质量好。
其工作原理是真空镀膜机在真空状态下，将被镀件置于低气压辉光放电的阴极上，通入适当气体，在一定温度下，利用化学反应和等离子相结合的离化聚合过程，在工件表面获得涂层，而气相物质吸收于工件表面并互相反应，最后形成固相薄膜沉积在工件表面上。
这种成膜优点有：
1、低温成膜，温度对基片影响少，避免了高温成膜的晶粒粗大及膜层与基片之间生成脆相；
2、可制备厚膜，膜层成分均匀，针孔小，致密，内应力小，不易产生微裂纹；
3、等离子体对基片有清洗作用，增加了膜层的附着力。
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