《真空镀膜技术》专题已经来到了最后一期，感谢各位的支持！你们的支持是我们坚持的动力。上期我们说的是真空镀膜，这期我们就来说说，膜厚的计算及测量。
设蒸发源为点蒸发源，单位时间内通过任何方向一立体角dω的质量为：
蒸发物质到达任一方向面积元ds质量为：
设蒸发物的密度为ρ，单位时间淀积在ds上的膜厚为t，则：
比较以上两式可得：
对于平行平面ds，φ=θ，则上式为：
由：
可得：
在点源的正上方区域 (δ=0)时：
干涉条纹间距Δ0，条纹移动Δ，台阶高为
测出Δ0和Δ，即可测得膜厚t，其中λ为单色光波长，如用白光，λ取
称重法
如果薄膜面积A，密度ρ和质量m可以被精确测定的话，膜厚t就可以计算出来：
石英晶体振荡器法
广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的自动控制。
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