一、镀膜技术可区分为哪几类?
可区分为：(1)真空蒸镀 (2)电镀 (3)化学反应 (4)热处理 (5)物理或机械处理
二、蒸镀的加热方式包括哪几种?
加热方式分为：
(1)电阻加热 (2)感应加热 (3)电子束加热 (4)雷射加热 (5)电弧加热
三、真空蒸镀可应用在哪些产业?
主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀方面等，现就比较常见者分述如下：
1.镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等)，镜片置于半球支顶，一次可镀上百片以上。
2.金属、合金或化合物镀膜，应用于微电子当导线、电阻、光电功能等用途。
3.镀铝或钽于绝缘物当电容之电极。
4.特殊合金镀膜MCrAlY具有耐热性抗氧化性，耐温达1100OC，可应用耐高温环境的工件，如高速切削及成形加工、涡轮引擎叶片等。
5.镀金属于玻璃板供建筑物之装饰及防紫外线。
6.离子蒸镀镀铝，系以负高电压加在被镀件上，再把铝加热蒸发，其蒸气经由电子撞击离子化，然后镀到钢板上。
7.镀铝于胶膜，可供装饰或标签，且镀膜具有金属感等。最大的用途就是包装，可以防潮、防空气等的渗入。
8.机械零件或刀磨具镀硬膜(TiC、TiN、Al2O3)这些超硬薄膜不但硬度高，可有效提高耐磨性，而且所需厚度剪小，能符合工件高精度化的要求。
9.特殊合金薄片之制造。
10.镀多层膜于钢板，改善其性能。
11.镀硅于CdS太阳电池，可增加其效率。
12.奈米粉末之制造，镀于冷基板上，使其不附着。
四、TiN氮化钛镀膜具有哪些特点?
有以下的优点：
(1)抗磨损
(2)具亮丽的外观
(3)具安全性，可使用于外科及食品用具。
(4)具润滑作用，可减少磨擦。
(5)具防蚀功能
(6)可承受高温
五、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为哪五个步骤?
(1)不同成份气相前置反应物由主流气体进来，以扩散机制传输基板表面。理想状况下，前置物在基板上的浓度是零，亦即在基板上立刻反应，实际上并非如此。
(2)前置反应物吸附在基板上，此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动。
(3)前置物在基板上进行化学反应，产生沉积物的化学分子，然后经积聚成核、迁移、成长等步骤，最后联合一连续的膜。
(4)把多余的前置物以及未成核的气体生成物去吸附。
(5)被去吸附的气体，以扩散机制传输到主流气相，并经传送排出。
六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有哪些?
通俗的定义为在正常状况下，其应用功能不会失效。想要达到这个目的，一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针孔密度很少、够强的机械性能、均匀的膜厚、以及足够的抗化学侵蚀性。薄膜的特性主要受到沉积过程、成膜条件、接口层的形成和基材的影响，随后的热处理亦扮演重要角色。
七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何?
(1)薄膜和基材之间的晶格失配
(2)薄膜和基材之间的热膨胀系数差异
(3)晶界之间的互挤
八、何为物理蒸镀?试简述其步骤?
物理蒸镀就是把物质加热挥发，然后将其蒸气沉积在预定的基材上。由于蒸发源须加热挥发，又是在真空中进行，故亦称为热蒸镀或真空蒸镀。
其可分为三个步骤
(1)凝态的物质被加热挥发成汽相
(2)蒸汽在空中移动一段距离至基材
(3)蒸汽在基材上冷却凝结成薄膜
来源：镀膜行业交流
一体式溅射镀膜设备介绍
钕铁硼（NdFeB）永磁材料，具高磁能积、高矫顽力和高温工作等特性，这种磁铁是现今磁性仅次于绝对零度钬磁铁的永久磁铁，也是最常使用的稀土磁铁。钕铁硼磁铁被广泛地应用于电子产品，例如硬盘、手机、耳机以及用电池供电的工具等。采用特殊的工艺使重稀土金属通过扩散只存在于晶界，而不进入晶内，这样不仅提高了钕铁硼材料的性能，而且大大减少了重稀土元素的总量，降低了材料成本。据实验数据表明，钕铁硼镀镝、铽并渗透处理后，矫顽力提升高达57%以上，而剩磁几乎没有下降。比起传统的工艺，采用磁控溅射真空镀膜技术进行钕铁硼表面镀重稀士材料的技术，既环保节能而且性能、材料损耗等均有明显优势，是目前相关处理手段中最优的选择。
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