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辉光放电介绍

辉光放电介绍 广东振华科技股份有限公司
2020-07-10
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导读:辉光放电通常把在电场作用下气体被击穿而导电的物理现象称之为气体放电。气体放电有“辉光放电”和“弧光放电”两种

辉光放电

通常把在电场作用下气体被击穿而导电的物理现象称之为气体放电。气体放电有“辉光放电”和“弧光放电”两种形式。辉光放电又分为“正常辉光放电”与“异常辉光放电”两种,它们是磁控溅射镀膜工艺过程中产生等离子体的基本环节。

辉光放电(或异常辉光放电)可以由直流或脉冲直流靶电源通过气体放电形成,也可以用交流(矩形波双极脉冲中频电源、正弦波中频与射频)靶电源通过真空室内的气体放电产生。

气体放电时,充什么样的工作气体、气压的高低、电流密度的大小、电场与磁场强度的分布与高低、电极的不同材质、形状和位置特性等多种因素都会影响到放电的过程和性质,也会影响到放电时辐射光的性质和颜色。


(1)直流辉光放电

①在阴-阳极间加上直流电压时,腔体内工作气体中剩余的电子和离子在电场的作用下作定向运动,于是电流从零开始增加;

②当极间电压足够大时,所有的带电离子都可以到达各自电极,这时电流达到某一最大值(即饱和值);

③继续提高电压,导致带电离子的增加,放电电流随之上升;当电极间的放电电压大于某一临界值(点火起辉电压)时,放电电流会突然迅速上升,阴-阳极间电压陡降并维持在一个较低的稳定值上。工作气体被击穿、电离,并产生等离子体和自持辉光放电,这就是“汤生放电”的基本过程,又称为小电流正常辉光放电。

④磁控靶的阴极接靶电源负极,阳极接靶电源正极,进入正常溅射时,一定是在气体放电伏-安特性曲线中的“异常辉光放电区段” 运行。其特点是,随着调节电源输出的磁控靶工作电压的增加,溅射电流也应同步缓慢上升。


(2)脉冲直流辉光放电

脉冲或正弦半波中频靶电源的单个脉冲的气体放电应与直流气体放电伏-安特性曲线异常辉光放电段及之前段的变化规律相符。可以将其视为气体放电伏-安特性在单个脉冲的放电中的复现。脉冲直流靶电源在脉冲期间起辉溅射,在脉冲间隙自然灭辉(因频率较高,肉眼难以分辨)。

溅射靶起辉放电后,当电源的输出脉冲的重复频率足够高时,由于真空腔体内的导电离子还没有完全被中和完毕,第二个(以后)重复脉冲的复辉电压与溅射靶的工作电压接近或相同。当电源输出脉冲的重复频率很低(例如几百HZ以下)或灭弧时间过长(大于100ms以上),溅射靶起辉放电后,由于真空腔体内的导电离子已基本被中和掉,第二个(以后)重复脉冲的复辉电压恢复至较高数值,与点火起辉时的高电压接近或相同。



磁控溅射


手机类镀膜设备介绍



GFM1916双门磁控光学镀膜设备

设备介绍

GFM1916双门磁控光学镀膜设备,配备公自转旋转系统,在线监测膜厚。完美解决了膜层附着力、硬度、耐脏污、耐摩擦性、耐溶剂性、耐老化、耐水泡及水煮等性能问题。

该设备可在手机玻璃盖板、手机摄像头镀AR+AF,手机后盖、PET膜片上镀渐变色,酒瓶、香水瓶等产品上镀彩膜,装载量大,效率高,操作方便,除了优越的膜层性能外,且具有环保的制程。广泛应用于手机领域,使这些产品的耐脏污性能更优,表面更易清洁,使用寿命更长。

设备规格型号:GFM1916

设备规格尺寸可按客户工艺要求订制

产品应用



ZCL1912磁控溅射镀膜设备

设备介绍

ZCL1912磁控镀膜设备采用中频磁控溅射及多弧离子相结合技术,适用于塑胶、玻璃、陶瓷、五金等产品,如眼镜、手表、手机配件、电子产品、水晶玻璃等。膜层的附着力、重复性、致密度、均匀性好,具有产量大,产品良率高等特点。


设备规格型号:ZCL1612  ZCL1912  ZCL1914


设备规格尺寸可按客户工艺要求订制

产品应用



ZCL1616防指纹镀膜设备

设备介绍

ZCL1616防指纹镀膜设备采用磁控溅射成膜技术,不但解决了膜层附着力、硬度、耐脏污、耐摩擦性、耐溶剂性、耐老化、耐水泡及水煮等性能问题,而且可以AR膜和AF膜同炉生产,特别适合于金属和玻璃表面颜色装饰、AR膜、AF/AS膜的大规模生产。该设备装载量大,效率高,工艺简单,操作方便,膜层一致性好。除了优越的膜层性能外,且具有环保的制程。


主要应用于手机玻璃盖板、手机镜头、防爆膜等表面处理领域镀AR+AF,使这些产品的耐脏污性能更优,表面更易清洁,寿命更长。


设备规格型号:ZCL1616


设备规格尺寸可按客户工艺要求订制



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广东振华科技股份有限公司
广东振华科技股份有限公司始创于1992年,是一家专门为客户提供优质真空镀膜解决方案的企业,公司独立研发、生产、销售真空镀膜设备,提供镀膜工艺及技术支持。
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