Ri-Q-Top–立达自清洁顶梳——采用计算机辅助工艺设计(C-A-P-D)开发
自动完成自清洁,清洁周期减少4倍
产能增加,质量稳定,降低产能成本
齿形和截面设计优化,顶梳运行更高效(短纤、尘杂、杂质、棉结、棉籽碎片的清除更高效)
齿尖得到强化,减少了损坏,增加了使用寿命
所有立达精梳机都可配备
如果想了解更多相关资讯,欢迎微信留言与我们联系。

立达中国Ri-Q-Top–立达自清洁顶梳——采用计算机辅助工艺设计(C-A-P-D)开发
自动完成自清洁,清洁周期减少4倍
产能增加,质量稳定,降低产能成本
齿形和截面设计优化,顶梳运行更高效(短纤、尘杂、杂质、棉结、棉籽碎片的清除更高效)
齿尖得到强化,减少了损坏,增加了使用寿命
所有立达精梳机都可配备
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