本文研究氧化铈CMP抛光液，是基于二氧化铈磨料的CMP抛光液，代表性产品如日本Resonac（原Hitachi Chemical/Showa Denko）的GPX系列ceria抛光液。Resonac目前是全球最大的氧化铈抛光液生产商。
基于二氧化铈磨料的抛光液具有高速去除二氧化硅，高选择比，高平坦化效率等优点，用于集成电路制造工艺中浅槽隔离（STI）、层间电介质（ILD）和其他需要高速去除二氧化硅的抛光工艺中（主要是滤波器用）。

据路亿市场策略（LP Information）调研团队最新报告《全球二氧化铈抛光液市场增长趋势2025-2031》显示，预计2031年全球氧化铈抛光液市场规模将达到5.2亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.6%。

目前，全球氧化铈CMP抛光液，生产主要分布在美国、日本、韩国和中国台湾。其中美国是第一大生产地区，之后是中国台湾、日本和韩国。中国产起步较晚，预计2029年，中国产氧化铈CMP抛光液，占全球比重将达到30%。

消费端来看，目前核心市场主要是中国台湾、韩国、中国大陆、北美和日本等，其中中国台湾是第一大市场，中国大陆占据第二位，之后是韩国。

从产品类型及技术方面来看，目前CMP氧化铈抛光液，按主要有基于煅烧二氧化铈磨料和基于胶体二氧化铈磨料的抛光液，其中基于胶体二氧化铈磨料的抛光液，目前处于主导地位，厂商会根据自己的技术及市场定位，选择不同的制法。从产品市场应用情况来看，目前氧化铈CMP抛光液，核心应用是STI/ILD CMP，目前占据大约90%的份额，少量产品应用于SAW、BAW和FBAR滤波器的氧化物抛光，代表性用户有卓胜微等。

目前全球头部厂商包括Resonac、Merck KGaA、AGC、KC Tech和安集微电子等，2024年全球前三大厂商占有大约70%的市场份额。预计未来几年，中国厂商将占据更重要份额。目前中国本土核心厂商是安集微电子，潜在进入者包括万华化学、鼎龙控股、无锡吉致电子科技有限公司、广西立之亿新材料有限公司和上海新阳半导体材料股份有限公司等。

图. 氧化铈抛光液，全球市场总体规模

图. 全球氧化铈抛光液市场前10强生产商排名及市场占有率（基于2025年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）

更多资料请参考《全球二氧化铈抛光液市场增长趋势2025-2031》，本报告对该行业的供需状况、发展现状、行业发展变化等进行了分析，重点分析了行业的发展现状、如何面对行业的发展挑战、行业的发展建议、行业竞争力，以及行业的投资分析和趋势预测等。报告还综合了行业的整体发展动态，包含美国最新关税对全球供应链的影响，产业链供货关系分析，对行业在产品方面提供了参考建议和具体解决办法。

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