超纯水是通过从饮用水、河水或工艺水中去除杂质而制得，其纯净度极高，几乎不含除氢离子和氢氧化物以外的任何杂质，满足包括电阻率超过18.2MΩ-cm（18.2兆欧）以及低至万亿分之一的其他参数（如选择性污染物提取SCE和RO Infinity ROI）在内的高质量标准。通过结合补充、初级处理和抛光阶段的电去离子（EDI）技术，可以稳定地生产出超纯水。

超纯水在半导体设备的所有湿法处理操作中得到了广泛应用，包括晶圆清洗、蚀刻和抛光。更先进的技术还利用超纯水进行浸没式光刻。因此，超纯水的纯度对半导体制造过程至关重要，因为它会直接与硅片接触。其他影响产品产量的主要杂质包括有机物（TOC）、颗粒物、细菌、金属和阴离子。超纯水主要用于硅片及半导体材料的清洗、电镀液的配制、设备的冷却以及硅片的氧化等工艺。通过在每个步骤之间使用超纯水清洁晶圆，可以保持最高的清洁度标准，并最大限度地提高半导体生产率。

超纯水的制备更多的依赖于超纯水设备系统进行，主要的设备包括有预处理设备、反渗透设备、后处理设备、清洗设备等。

据路亿市场策略（LP Information）调研团队最新报告《全球半导体用超纯水系统市场增长趋势2025-2031--LP Information》显示，预计2031年全球半导体用超纯水系统市场规模将达到35.7亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为7.2%。

图00001. 半导体用超纯水系统，全球市场总体规模

图00002. 全球半导体用超纯水系统市场前12强生产商排名及市场占有率（基于2024年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）

根据路亿市场策略（LP Information）头部企业研究中心调研，全球范围内半导体用超纯水系统生产商主要包括栗田工业、奥加诺、野村、SKion Water (Ovivo)、Veolia、高频科技、雷铯科技、广东唐古科技、台湾纯水科技、戈润环保等。

2024年，全球前十强厂商占有大约75.0%的市场份额。

图00003. 半导体用超纯水系统，全球市场规模，按产品类型细分，1000m³/h以上处于主导地位

就产品类型而言，目前1000m³/h以上是最主要的细分产品，占据大约36.5%的份额。

图00004. 半导体用超纯水系统，全球市场规模，按应用细分，晶圆制造是最大的下游市场，占有81.7%份额。

就产品应用而言，目前晶圆制造是最主要的需求来源，占据大约81.7%的份额。

图00005. 全球半导体用超纯水系统规模，主要生产地区份额

图00006. 全球主要市场半导体用超纯水系统规模

更多资料请参考《全球半导体用超纯水系统市场增长趋势2025-2031--LP Information》，本报告对该行业的供需状况、发展现状、行业发展变化等进行了分析，重点分析了行业的发展现状、如何面对行业的发展挑战、行业的发展建议、行业竞争力，以及行业的投资分析和趋势预测等。报告还综合了行业的整体发展动态，包含美国最新关税对全球供应链的影响，产业链供货关系分析，对行业在产品方面提供了参考建议和具体解决办法。

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