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废水简介
硅片制造半导体前，必须将硅转换为晶圆片。研磨工序之后需采用大量的超纯水来洗净晶圆表面所残留的悬浮微颗粒或金属离子污染物，因而产生CMP研磨废液及后段清洗废水。其废水中SS浓度较高主要以单晶硅粉末出现，单晶硅形成的泥粉量大，沉淀困难。目前国内主要采用絮凝沉淀方法，不仅额外增加了沉淀物的量，并且沉淀效果不理想，运行费用高等。而采用一般的有机膜，晶体在流动过程中的切削作用会使有机膜断裂，不仅前期投入高，并且更换频繁。
工艺
传统工艺药剂投加费用高，且沉淀后上清液仍有悬浮物，无法达标排放；后续再增设深度处理或吸附设备，整体处理成本高；吸附设备属于耗材，不符合经济效益；有机膜的膜法过滤，因为硅单质四面体结构，流动过程中会对有机膜有磨削作用，使用过程中水质会逐步恶化。
项目应用
某晶圆厂研磨切割废水
硅片磨削废水中含极高SS浓度的单晶硅粉末，粉末极细沉淀性能差。目前国内主要采用加药沉淀方法，这不仅额外增加沉淀物的量，并且沉淀出水不达标，更因额外加入的药剂使水无法回用。因为硅晶体的硬度很高及锋利，若采用有机膜过滤非常容易将有机膜割破，实践后已经证明有机膜不合适。中空板式陶瓷膜凭借无机材料优异的物理性能，强度高并且亲水性好，实现了在最小的占地面积下过滤出高质量可回用的生产用水。本设备已成功在新加坡某再生能源公司投入运行。
处理工艺
设备投入使用现场
晶圆废水处理
Ceraflo一体化设备
晶圆废水处理设备
项目名称：某晶圆厂研磨切割废水
地 址：东莞
产水用途：回用到生产环节
进水水质：SS浓度高，悬浮物极细微的
单晶硅研磨废水
日处理能力：200t
膜面积：90㎡
膜组数：20组
设计通量：100L/（㎡h）
此设备为世来福中空板式陶瓷膜标准设备，每套设备日处理能力达200t，实现自动化运行，出水水质满足回用标准，并且能回收粉末状的硅单质实现资源的有效回收利用。
粉末状的硅单质
原水过滤对比
东莞某自动化机械公司晶圆废水
项目名称：东莞某自动化机械公司晶圆废水
地 址：东莞
进水水质：高SS，悬浮物极细微的单晶硅研磨废水
日处理能力：160t
处理工艺
设备投入使用现场
Ceraflo陶瓷膜过滤系统
