阿斯麦（ASML）2026年第一季度财报及电话会关键信息摘要如下。
阿斯麦财报核心信息回顾
股东回报：第一季度派发2025年中期股息1.60欧元/股；拟订2025年全年股息7.50欧元/股，同比增长17%；同期完成股票回购11亿欧元。
2026年全年指引上调：营收预期上调并收窄至360-400亿欧元，毛利率维持51%-53%；极紫外光刻（EUV）收入预期大幅增长，深紫外光刻（DUV）设备从“与去年持平”上调为正增长；装机业务收入预期显著提升，指引已预留出口管制潜在影响空间。
2026年第二季度指引：净营收84-90亿欧元，其中装机业务约25亿欧元；毛利率51%-52%；研发支出约12亿欧元，销售及行政支出约3亿欧元。
2026年第一季度业绩：净营收88亿欧元（达指引上限），含系统销售63亿欧元（EUV系统41亿欧元，含2台High NA；DUV系统21亿欧元；逻辑/存储占比49%/51%），装机业务25亿欧元；毛利率53%；净利润28亿欧元，净利率31.4%；自由现金流-26亿欧元（主要受预付款时点影响）；现金及短期投资84亿欧元。
税率：第一季度有效税率17.1%，2026年全年预计年化有效税率约17%。
ASML财报电话会核心要点
高管陈述核心信息
市场需求与客户动态：半导体行业增长由AI基础设施投资驱动，先进逻辑与存储芯片需求持续超供给；终端市场（AI、手机、PC）普遍缺货，客户积极扩产。存储领域客户确认供给限制延续至2026年后；逻辑客户在多个先进节点同步扩产，并持续运行2nm节点，供给紧张局面将持续。
产能扩张规划：2026年计划出货至少60台Low NA EUV设备，ArFi DUV已接近2025年出货水平；2027年Low NA EUV产能提升至至少80台，结合单机产能提升，晶圆加工能力达2025年的两倍；供应链（含ZEISS光学部件）、厂房与人员协同支持产能扩张。
技术进展：Low NA EUV十年规划目标达330 WPH（晶圆/小时），近期完成1000瓦光源测试；NXE:3800E系统可通过升级实现230 WPH；NXE:3800F规格提升至260 WPH，计划2027年出货、2028年放量；High NA平台已处理超50万片晶圆，可用性超80%，可简化3-4次Low NA曝光流程。
AI与光刻需求：AI应用推动先进制程需求，光刻设备渗透率提升；终端市场动态强化先进光刻设备结构占比，Low NA产能路线图与High NA引入将降低客户技术成本。
Q&A问答精选
问：2026年指引上调中，浸润式DUV及EUV增长的区域贡献如何？