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电子工业、半导体制造用的电子气体的分类。
纽瑞德小编特归纳如下,供大家学习交流。
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掺杂气:
AsH3、PH3、GeH4、B2H6、AsCl3、AsF3、H2S、BF3、BCl3、SeH2、SbH3、(CH3)2Te、(CH3)2Cd、(C2H5)2Cd、PCl3、(C2H5)2Te
晶体生长气:
SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、B2H6、BBr3、BCl3、AsH3、PH3、GeH4、TeH2、(CH3)3Al、(C2H5)3Al、(CH3)3As、(C2H5)3As、(CH3)2Hg、(CH3)P、(C2H5)3P、SnCl4、GeCl4、SbCl5、AlCl3、Ar、He、H2
气相蚀刻气:
CL2、HCl、HF、HBr、SF6
等离子蚀刻气:
SIF4、CF4、C3F8、CHF3、C2F6、CClF3、O2、C2ClF5、NF3、SF6、BCl3、HFCl2、N2、He、Ar
离子束蚀刻气:
C3F8、CHF3、CClF3、CF4
离子注入气:
AsF3、PF3、PH3、BF3、BCl3、SiF4、SF6、H2、N2
化学气相淀集气:
SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、NO、O2
平衡气:
N2、Ar、He、H2、CO2、N2O、O2
外延气:
SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、Si2H6、HCl、PH3、AsH3、B2H6、He、H2、N2、Ar

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