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12层HBM3国产化全线突破!

12层HBM3国产化全线突破! Ai&芯片那点事儿
2026-04-10
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导读:中国正推动在进入HBM市场仅三年后实现12层堆叠HBM量产。这也是目前已商业化的最高堆叠层数,意味着中国已掌握由韩国厂商主导的主流产品技术。
中国正推动在进入HBM市场仅三年后实现12层堆叠HBM量产。这也是目前已商业化的最高堆叠层数,意味着中国已掌握由韩国厂商主导的主流产品技术。

据韩媒报道消息,中国DRAM存储巨头CXMT计划于明年开始量产12层HBM。公司正与国内外材料、零部件及设备供应商讨论资本开支计划。

知情人士表示:“CXMT今年将进入第四代‘HBM3 8层’量产,同时与合作伙伴全面讨论12层HBM生产。随后将推进DRAM堆叠相关的技术升级与设备投资。”

目前,12层是AI芯片所搭载HBM中的最高堆叠层数,市场供应的主流为HBM3E 12层。SK海力士、三星电子和美光按顺序占据市场份额。HBM4(三星今年2月开始量产,SK海力士与美光也在推进供货)初期同样以12层产品为主。

HBM通过垂直堆叠DRAM来提升带宽(速度),堆叠层数是关键技术指标。将上下层DRAM通过微凸点连接并无误键合的技术难度极高,同时还需解决堆叠后的散热问题。因此,当DRAM制造成HBM时,良率通常会下降。

CXMT的举动表明,其在一定程度上已解决这些技术难题,尤其是与三星电子和SK海力士之间的差距进一步缩小。
其在2024年下半年量产第二代“HBM2 4层”。而当时SK海力士已进入HBM3E 12层量产阶段。然而,仅在全面进入市场约三年后,就挑战主流12层量产,意味着已接近韩国HBM水平。
业内普遍认为,韩国与中国的HBM技术差距已然缩小至两三年之内。

报道称,CXMT今年计划将约20%的DRAM产能转为HBM——约每月6万片晶圆——目标客户为中国AI芯片公司。公司还计划今年通过IPO融资42亿美元,用于扩建下一代DRAM与HBM产线。

业内人士表示:“若三星电子与SK海力士想进一步拉大技术差距,需要提前布局16层HBM以及混合键合等下一代技术。”

三星电子与SK海力士预计最早将在今年年底完成16层HBM开发。

【声明】内容源于网络
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