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研究背景
文章简介
要点解析
图1.材料晶体结构和氧空位表征
图1表征了原始材料LMNO和CeO2改性材料的晶体结构和氧空位。图1a为原始样LMNO和CeO2改性材料的XRD图谱。结果表明,所制备的材料具有良好的层状结构,并且在~28.5o和~33.1o观察到CeO2的衍射峰。结合XRD图谱精修、(003)/(104)峰的偏移和DFT计算的结果(图1b),证实了Ce离子易于取代Ni离子,并使CeO2改性材料的晶格常数增大(Ce3+:1.02Å,Ce4+:0.87Å,Ni2+:0.69Å)。通过对比纯CeO2样品主衍射峰和CeO2改性材料中CeO2衍射峰的位置证明CeO2改性材料的晶格常数比纯CeO2样品大(图1c),说明改性材料CeO2涂层中含有较大半径的Ce3+离子,从而证明CeO2涂层中具有氧空位。
为了进一步证明涂层中氧空位的存在,作者对所制备的样品进行了XPS表征和分峰拟合。图1d-f显示CeO2改性材料中含有Ce3+和Ce4+,并且涂覆量越高,Ce3+含量越高,说明氧空位含量越高。通过分析原始材料LMNO和CeO2改性材料的氧空位含量,进一步证实了CeO2涂层中氧空位的存在。这些氧空位可以为材料中的On-离子提供活性位点,可以减少氧的损失并抑制界面副反应。
图2.材料微观结构表征
图2异质外延氧气缓冲界面的原子尺度表征和相转变机制。图2a表明原始材料LMNO具有良好的层状结构和均匀的元素分布。图2b-e证明了异质外延界面的微观结构,其由5-6nm厚的萤石结构的CeO2和中间相岩盐结构以及层状主体结构构成。EDS面扫(图2f-i)表明CeO2涂层中Ce元素分布均匀,并向层状材料主体扩散,但是其O元素的含量低于层状主体,可能原因是异质外延界面具有氧空位。
图3. EELS表征
随后,作者通过EELS表征了异质外延氧缓冲界面的氧空位的存在和过渡金属元素的价态。图3b显示了在材料主体层状结构区域观察到了Ce-M的吸收边峰(蓝线,对应于图3a区域III),且位于CeO2涂层中Ce-M的吸收边峰左侧(黑色线,对应于图3a区域I),即位于低能量损失区域,表明Ce离子以较低的价态(+3价)掺杂进入材料晶格中。图3c中的红色和蓝色线(对应于图3a的II和III区域)显示氧的吸收边峰强度降低,表明距离材料表面20nm处产生氧空位,并且在氧空位和Ce离子掺杂的共同作用下,Mn离子和Ni离子显示出较低的化合价(图3d-e)。
为了进一步确认CeO2涂层中Ce离子的价态和氧空位的存在,作者对CeO2涂层做了EELS表征并选择了其中的六个区域分析(图3f)。Ce-M 吸收边峰EELS光谱如图3g所示,其中M4和M5峰的位置基本相同,表明涂层中Ce的含量和价态分布较为均匀。为了进一步确定Ce离子的价态和氧空位的存在,作者通过二阶导数法计算M4/M5比值定量评估了Ce的价态,如图3h所示,M4/M5的平均比值为0.84~0.95,高于0.76(Ce2O3 )但低于1.15(CeO2),证实了CeO2涂层中同时存在Ce3+和Ce4+离子,此外,作者通过分析涂层中O的吸收边峰确认材料中含有CeO2和Ce2O3, 进一步证明了CeO2涂层中含有氧空位。
图4.所制备材料的电化学性能
图4a-b显示CeO2改性材料充电比容量降低并且在4.5 V处的氧化峰被抑制,这是由于一些Li2MnO3成分被消耗掉以形成异质外延界面,并存在部分Li+离子插入CeO2涂层。此外,Ce掺杂将新的电子引入到O 2p和Ni 3d能带,提高了材料的电子电导率。在氧化铈@岩盐结构@层状结构异质外延氧气缓冲界面的作用下,LMNO@1%CeO2材料显示出最优异的倍率性能、循环性能和电压稳定性,其在10C倍率下放电158.8mAh g-1,经过200次循环后容量保持率和电压保持率分别为80.2%和90.2%,远优于原始材料LMNO。
图5. 材料循环后的结构退化
图5对比了原始材料LMNO和LMNO@1%CeO2材料循环之后的结构退化程度。图5a表明原始LMNO材料在循环之后会产生许多孔洞和裂纹,并且产生大量的尖晶石结构和岩盐结构,其结构退化是从颗粒表面开始扩散到内部的。由于异质外延氧缓冲界面的作用,LMNO@1%CeO2材料显示出有限的结构退化,其主体结构基本保持完整,并且没有产生明显的孔洞和裂纹。
另外,为了进一步证明CeO2对氧气释放的抑制作用,作者分析了循环后涂层中Ce离子的价态(图5l-n)。循环后Ce-M吸收边峰的M4/M5的平均比值为~1.11,高于循环前的比值,表明循环中大量Ce3+离子被氧化成Ce4+,从而抑制了不可逆的氧气释放。
要点六:
图6. LMNO@CeO2结构稳定性的机理
(a)氧化铈@岩盐结构@层状结构异质外延氧气缓冲界面的形成机理示意图;
(b) LMNO@1%CeO2充电前、充电后和循环后的结构示意图;
(c) LMNO充电前、充电后和循环后的结构示意图。
(1)具有缺陷的CeO2和岩盐中间相中产生的氧空位可以充当储氧器以抑制晶格氧的不可逆释放和随后的电极-电解质界面副反应。
(2)氧化铈@岩盐结构界面可防止层状主体直接暴露于电解质中,从而减轻了过渡金属的溶解和结构退化,限制了纳米孔洞和裂纹的形成。
结论
总之,在富锂层状正极材料充放电过程中必然产生晶格氧的不可逆释放,而对材料中氧的氧化还原调控是提高材料电化学性能的重要策略。作者使用CeO2在富锂材料表面构建了氧化铈@岩盐结构@层状结构异质外延氧缓冲界面。这种界面可以提高材料动力学性能并且抑制循环过程中不可逆的氧气释放和相转变,从而抑制材料的容量损失和电压衰减。这种新集成策略为设计下一代高性能锂离子电池(LIB)层状正极材料提供了新思路。
文章链接:
Chunxiao Zhang, Yuzhang Feng, Bo Wei, Chaoping Liang, Liangjun Zhou, Douglas G. Ivey, Peng Wang, Weifeng Wei, Heteroepitaxial oxygen-buffering interface enables a highly stable cobalt-free Li-rich layered oxide cathode. Nano Energy (2020) 104995.
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S2211285520305723?via%3Dihub
作者简介及照片:
通讯作者:韦伟峰教授
中南大学粉末冶金国家重点实验室教授、博士生导师、副院长。2008年12月在加拿大阿尔伯塔大学化学材料工程系获得博士学位;2009年~2011年在美国麻省理工学院(MIT)材料科学与工程系进行博士后研究;于2011年10月以“升华学者”特聘教授加入中南大学粉末冶金国家重点实验室。2011年入选“升华学者”特聘教授和教育部“新世纪优秀人才计划”;2012年入选国家级海外青年人才计划。长期从事新型电化学能源材料应用基础研究,主要研究方向为全固态二次电池材料及器件。近年来,主持了包括科技部新能源汽车重大专项课题、国家自然科学基金、教育部博士点基金、重点横向开发课题等10多项科研项目。在Chem. Rev., Chem. Soc. Rev., Adv. Funct. Mater.,Adv. Energy Mater.,Nano Energy等国际权威期刊发表SCI论文100余篇;申请国家发明专利20余项,已授权12项。担任学术期刊Progress in Natural Science: Materials International、ES Energy & Environment编委。
资料来源/课题组主页
http://pmri.csu.edu.cn/bk/?id=Wei%20Weifeng
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