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天津理工《CEJ》:可有效抑制枝晶生长的低电子导电率NASICON 固体电解质

天津理工《CEJ》:可有效抑制枝晶生长的低电子导电率NASICON 固体电解质 科学材料站
2021-06-25
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导读:该文章制备了低电负性镧系离子(Pr3+、Eu3+、Lu3+)掺杂的NASICON 型固体电解质, 提高了离子电导率和相对密度,降低了电子电导率,从而提升了电解质耐受钠枝晶生长的能力。


文章信息

可有效抑制枝晶生长的低电子导电率NASICON 固体电解质
第一作者:王欣欣
通讯作者:毛智勇*,王达健*
单位:天津理工大学

研究背景

NASICON 型固体电解质(Na3Zr2Si2PO12)有着高机械强度、宽电化学窗口、优异的化学/电化学稳定性和良好的离子电导率,因此被认为是具有一定应用潜力的电解质材料。
然而,较低的离子电导率(相比于电解液)和钠枝晶生长等问题限制了其实际应用。陶瓷电解质/金属负极的界面阻抗以及电解质的致密度、电子电导率等因素都会影响钠枝晶的形成,这是固态锂/钠电池在实际应用中的主要挑战。

文章简介

本文中,来自天津理工大学的毛智勇副教授团队,在国际知名期刊Chemical Engineering Journal上发表题为“Effective Resistance to Dendrite Growth of NASICON Solid Electrolyte with lower Electronic Conductivity”的文章。
该文章制备了低电负性镧系离子(Pr3+、Eu3+、Lu3+)掺杂的NASICON 型固体电解质, 提高了离子电导率和相对密度,降低了电子电导率,从而提升了电解质耐受钠枝晶生长的能力。
图1.镧系离子掺杂提升NASICON固体电解质的离子电导率和相对密度、降低电子电导率从而提升临界电流密度的示意图。

本文要点

要点一:镧系离子掺杂NASICON电解质的合成
使用高温固相法制备了Na3+xZr2-xPrxSi2PO12、Na3+xZr2-xEuxSi2PO12和Na3+xZr2-xLuxSi2PO12 (x=0∼0.4 )固体电解质。由于Pr3+ (99 pm) 和Eu3+ (94.7 pm)的离子半径远大于Zr4+ (72 pm),多余的掺杂离子无法完全嵌入NASICON的晶格中,从而形成了新相Na3Pr(PO4)2和 Na3Eu(PO4)2。
图2.样品的XRD衍射图谱。

要点二:离子电导率及致密度的提高
离子电导率的提升有以下几点原因:
1)Pr3+ (99 pm)、Eu3+ (94.7 pm)和Lu3+ (86.1 pm)较大的离子半径可以拓宽Na+的迁移通道。
2)低化合价离子的加入会产生更多的间隙Na+以保持电荷平衡,这提升了Na+浓度。
3)NASICON 电解质中的 Na+传导主要通过多个离子的协同跳跃机制发生,而Na+浓度的上升会导致库仑斥力增加以激活更协调的传导。
4)新相Na3Pr(PO4)2和 Na3Eu(PO4)2 的形成会从NASICON相中抽取一定量的组分 ,使得Si/P 的原子比大于2,提升了Na+的占有率。
5)离子掺杂NASICON相对密度的提升减少了陶瓷中的空隙,致密的微观结构可以促Na+在晶界处的运动,从而提高晶界离子电导率和总离子电导率。
图3.样品的阻抗谱图、离子电导率及致密度。

要点三:对电子电导率的探究
随着外部电压的不断加大,电解质的稳态电流出现了急剧上升的现象,这一行为与石榴石电解质十分相似。通过NASICON 电解质的电流越大,极化电压越高,当极化电压足够高时,电解质中可存在相对自由的电子转移,这说明NASICON的电子电导率与其临界电流密度密切相关。
而离子掺杂电解质的稳态电流上升趋势明显变小,这是因为以下两点原因:
1)掺杂元素取代了ZrO6 八面体中少量的Zr原子,并与O原子形成新的化学键。Pr (1.13)、Eu (1.20) 和 Lu (1.27) 的电负性均比 Zr (1.33) 低,它们与O (3.44) 之间电负性差异更大,导致化学键的特性展现更多的离子性和更少的共价性。更多的离子性降低了共享电子的比例,提升了电子的迁移所需能量,导致电子电导率降低。
2)离子掺杂NASICON中出现的新相Na3Pr(PO4)2和Na3Eu(PO4)2的电子电导率较低,阻碍了晶界处的电子转移。
图4.不同外部电压下电解质的稳态电流值,外部电压为 1 V 时电解质的极化电流-时间曲线。

要点四:临界电流密度的提升
通过组装钠对称电池评估了NASICON电解质的临界电流密度,其中NASICON/Na良好接触的界面是使用熔融金属钠的方法来构建的。
由于有着较高的相对密度和较低的电子电导率,三种镧系离子掺杂电解质的临界电流密度均得到显著提升,
图4.钠对称电池的阻抗谱图及临界电流密度测试曲线。

文章链接

Effective Resistance to Dendrite Growth of NASICON Solid Electrolyte with lower Electronic Conductivity
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1385894721024839#!

通讯作者介绍

毛智勇 副教授。
2003年本科毕业于天津理工大学,2014年博士毕业于中国科学院上海硅酸盐研究所,现为天津理工大学材料科学与工程学院副教授,主要从事光电、能源材料与器件研究。以第一作者或通讯作者身份发表学术论文60余篇。


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致谢

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