研 究 背 景
随着人工智能的发展,忆阻器因其“存算一体”的特性被越来越多的研究者探索,铁电忆阻器因其优异的极化可控、多值存储和在神经计算领域的应用潜力而受到人们的特别关注。其中,由于铁电材料的技术需求和无铅无毒的环境要求,BaTiO3(BTO)成为了铁电钙钛矿氧化物铅基材料的最佳替代品之一。然而,目前大多数铁电材料生长在单晶衬底上,复杂氧化物材料的硅兼容性不足阻碍了其与当前硅互补金属氧化物半导体技术的实际集成,在纯BTO铁电材料中还存在高介电损耗的问题。
文 章 简 介
图1. (a) Pd/BTO-CeO2/LSMO/STO/Si器件的原理结构图。(b)器件ϕ – scan测试结果。(c) BTO-CeO2层的垂直排列纳米复合铁电薄膜(TEM图)。(d)耐久性能可超过109次
成 果 简 介
文 章 链 接
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adma.202110343
通 讯 作 者 简 介
闫小兵 教授
河北大学电子信息工程学院教授,博士生导师。近年来致力于类脑芯片关键元器件忆阻器与系统的研发,先后获得国家重大人才工程青年学者、教育部霍英东青年教师奖、宝钢优秀教师奖、河北省青年科技奖、河北省青年五四奖章、河北省青年拔尖人才、河北省三三三人才二层次称号、河北省杰出青年等。在顶级国际权威期刊 Nature Nanotechnology、Advanced Materials、Nature Communications等发表论文100余篇,2019年被评为全球前2%顶尖科学家。
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