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北理工曹传宝/朱有启CEJ:高可逆电化学储镁用微波诱导富缺陷硫化钒阴极

北理工曹传宝/朱有启CEJ:高可逆电化学储镁用微波诱导富缺陷硫化钒阴极 科学材料站
2024-03-26
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导读:北理工曹传宝/朱有启CEJ:高可逆电化学储镁用微波诱导富缺陷硫化钒阴极


文 章 信 息

高可逆电化学储镁用微波诱导富缺陷硫化钒阴极

第一作者:江蓉

通讯作者:朱有启*,邹美帅*,曹传宝*


研 究 团 队 介 绍

可充电镁电池(rMBs)由于其较高的理论体积比容量(3833 mAh cm−3)、丰富的丰度、令人满意的安全性和环境兼容性,最近引起了广泛关注。然而,强静电力和电解质-电极不相容性导致Mg2+离子的电化学动力学缓慢,阻碍了rMBs的实际和工业应用。因此,探索合适的正极材料对于实现高效稳定的Mg2+离子存储尤为重要。VS4由于其巨大的理论容量(1199 mAh g-1),显示出很大的应用前景。然而,大多数观测到的容量远远低于其理论值。此外,Mg2+离子与VS4主体晶体之间的大相互作用可能导致结构崩溃。VS4阴极很难提供足够高的电导率来实现Mg2+离子的快速扩散动力学。


文 章 简 介

近日,来自北京理工大学的曹传宝教授和朱有启副教授等在国际知名期刊Chemical Engineering Journal上发表题为“Microwave-induced defect-rich vanadium sulfide cathodes for highly reversible electrochemical magnesium storage”的研究论文。本工作以富缺陷的VS4材料作为正极材料模型,提出了一种微波诱导合成方法,制备了具有丰富硫空位和高V3+/V4+比的VS4纳米片。电化学反应动力学的改善归因于VS4纳米片的富缺陷结构和S2−/S22−之间的可逆阴离子氧化还原反应。为设计具有良好扩散动力学的高性能Mg2+离子存储阴极材料提供了更深层次的理解。

图1. VS4纳米片和纳米花的合成示意图。


本 文 要 点

  1. 与外离子掺杂剂不同,V3+自掺杂可以最大限度地减小离子半径差异引起的晶格畸变,保持活性材料的结构稳定性。

    自掺杂还能提高载流子的输运速率,实现了良好的循环稳定性和显著的速率性能。

  2. 丰富的S空位作为电化学活性位点,可以吸附更多的Mg2+,从而提高Mg2+的存储,可以加快电化学反应动力学,缩短活化过程,在短时间内获得稳定的容量值。

    活性材料中丰富的硫空位也为离子插层提供了有效途径,从而增强了电荷转移动力学,达到良好的速率能力。

  3. 所合成的VS4正极材料表现出显著优异的电化学储镁性能,其在200mA g-1的电流密度下的储镁容量为701 mAh g-1,在1.0 A/g电流密度下也表现出超过600个循环的长期工作稳定性,每个循环的容量衰减仅为0.3 %。


图 文 分 析

图2. 富缺陷VS4纳米片的化学和成分表征。(a) XRD图谱。(b)拉曼光谱。(c) N2吸附-解吸等温线。(d)和(e)高分辨率XPS V 2p和S 2p光谱。(f) EPR谱。

图3. 富缺陷VS4纳米片的镁存储性能。(a)CV。(b)典型充放电电压曲线。(c)循环稳定性。(d)和(e)倍率性能和相应的充放电电压分布图。(f)电化学性能与先前报道的阴极材料的比较。(g)长期循环耐久性。

图4. 富缺陷VS4纳米片的电化学反应动力学。(a) CV曲线。(b)和(c)对应的线性关系。(d)计算Mg2+离子扩散系数。(e)、(f)伪电容和电容贡献率。(g)、(h)和(i)循环前和激活15个循环后不同充放电电压下的EIS光谱。


文 章 链 接

Microwave-induced defect-rich vanadium sulfide cathodes for highly reversible electrochemical magnesium storage

https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.150487


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