美国银行证券在一份报告中指出,拟议中的MATCH法案(《硬件技术控制多边协调法案》的简称)是美国一项立法倡议,旨在加强和协调对关键半导体制造设备的出口管制,特别是针对先进芯片生产中使用的关键"瓶颈"技术。
该立法草案将要求快速且反复识别敏感半导体工具和设施,同时推动美国盟友对设备销售和服务采用严格的"默认拒绝"出口许可制度。
美国银行表示,该法案还包括一项后备机制,如果盟国未能保持一致,可能会将美国管辖权扩展至外国制造的设备,通过类似《外国直接产品规则》的条款,有效地在全球范围内扩大出口限制的覆盖范围。
对于全球光刻机主导供应商阿斯麦公司(AS:ASML)而言,这一影响意义重大。MATCH法案明确包括深紫外(DUV)浸没式光刻系统——该公司的核心产品线,并将服务广泛定义为包括安装、维护、远程软件更新和技术支持。
这增加了限制措施可能超越新设备销售范围的风险,并影响与中国现有系统相关的高利润率服务收入。
中国仍然是阿斯麦公司的关键市场,根据2025年预估,约占集团销售额的29%。该公司已经预计中国收入贡献将正常化,但出口管制的进一步收紧可能会加深影响。
根据美国银行的情景分析,如果全面禁止向中国出口浸没式光刻工具及相关服务,可能会使阿斯麦公司的收入减少约14-15%,并使息税前利润(EBIT)在总额基础上减少16-17%。然而,来自非中国市场的更强劲需求,特别是在人工智能和存储驱动的半导体投资持续进行的背景下,可能会部分抵消这一冲击,降低息税前利润的净影响。
更广泛地说,MATCH法案凸显了地缘政治在塑造半导体设备制造商前景方面日益重要的作用。尽管阿斯麦公司继续受益于强劲的结构性需求及其在先进光刻领域的近乎垄断地位,