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在此,我司特别整理了近年来
“范德华异质结发展现状及转移技术”
相关文献素材,仅供各位老师参考!
下载地址:
https://pan.baidu.com/s/1blUlbbnpiRQdDRrnK-eldw
提取码: r9uk

自2010年以来,二维材料精准转移技术不断发展,促进了vdW异质结研究的发展,目前已发展的二维材料转移技术包括干法转移、湿法转移,如下图所示(素材来源于:廖俊懿, 吴娟霞, 党春鹤, 谢黎明. 二维材料的转移方法. 物理学报, 2021, 70(2): 028201. doi: 10.7498/aps.70.20201425):
文献摘要:
一、湿法转移:
PVA(聚乙烯醇)吸附转移法:
PVA吸附转移二维材料:在PVA表面剥离石墨烯样品;悬臂与石墨烯样品接触;用注射器在样品周围滴去离子水使局部的PVA溶解;将石墨烯转移至目标基底。
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)辅助转移法:
PMMA 辅助转移制备 Graphene/h-BN 异质结:石墨烯被剥离在水溶性高分子与PMMA 表面;在去离子水的作用下高分子薄膜与基底分离;石墨烯样品与h-BN对准;将石墨烯转移至带有h-BN的SiO2/Si基底上。
小分子掺杂PS(聚苯乙烯)转移法:
小分子掺杂 PS 转移 WS2 样品:CVD 生长在蓝宝石基底上的WS2 样品;将样品置于液氮中浸泡15 min;将样品置于Li+溶液中浸泡30 min;在样品表面旋涂小分子/高分子混合物薄膜,并在去离子水的作用下使薄膜与蓝宝石基底分离;将样品转移至目标基底;在甲苯溶液中浸泡1.5 h去除高分子薄膜。
化学刻蚀转移法:
化学刻蚀转移 CVD 生长大面积石墨烯:金属/SiO2 基底上生长或图形化的石墨烯样品;在去离子水的作用下将高分子薄膜支撑的石墨烯/金属层从SiO2基底分离;利用FeCl3溶液刻蚀金属;将石墨烯转移至目标基底;光刻得到目标基底上的石墨烯样品。
二、干法转移:
PDMS(聚二甲基硅氧烷)剥离转移法:
PDMS 干法转移设备及过程:在 PDMS上机械剥离二维材料;将带有样品PDMS翻转;样品与目标基底对准;使样品与目标基底接触;将PDMS从基底表面剥离;样品被成功转移至目标基底。
vdWs相互作用转移法:
vdWs相互作用法转移制备 h-BN/Graphene/h-BN 异质结:透明玻璃/PDMS/PPC担体将 h-BN从SiO2基底剥离;在110 ℃下将h-BN与石墨烯堆叠;将h-BN/Graphene从SiO2表面剥离;在110 ℃下将 h-BN/Graphene与h-BN堆叠;成功制备h-BN/Graphene/h-BN异质结。
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