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《光学 精密工程》 | 专题征稿:平面光学元件的设计、制造及应用

《光学 精密工程》 | 专题征稿:平面光学元件的设计、制造及应用 两江科技评论
2021-11-23
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导读:平面光学元件的设计、制造及应用”专题。
平面光学元件是由微纳米尺寸的单元结构在二维平面上按一定规律排列构成的光场调控元件。通过对单元结构的形状、大小、位置和取向进行设计,平面光学元件可以对光波的振幅、相位和偏振等参量进行任意调控。这种多自由度调控的独特能力,可将体积大、结构笨重、功能单一的传统光学元件变为轻薄且多功能集成的新型元件。另外,平面光学元件在加工上与半导体制造工艺相兼容,有望实现批量化大规模生产制造。因此,平面光学元件在光电系统轻量化、集成化方面具有明显的优势,并在高端装备、国防安全、航空航天和消费电子等领域展现出巨大的潜力。

近年来,以超构表面为代表的平面光学元件受到国内外广泛的关注和研究。在设计方面,多参量调控的能力使得它可以实现透镜、全息、结构色、复杂光束生成等多种功能的集成。在制造方面,面对小尺度、高精度、高密度和跨尺度等制造要求,电子束曝光、聚焦离子束刻蚀、激光直写、干涉曝光、纳米压印和半导体光刻等加工技术被用来实现小面积验证或者大面积量产。在应用方面,超构表面已经在光显示、光传输、光存储、光传感和光计算等领域展示出极大的潜力。除了超构表面之外,随着3D检测和显示、AR/VR显示等技术的兴起,二元光学元件、光栅元件等平面光学元件也焕发出新的活力。

为了促进平面光学元件设计、制造及其应用领域科研人员的交流以及相关成果的传播,《光学 精密工程》计划于2022年重点打造“平面光学元件设计、制造及其应用”专题,现特向广大专家学者征集平面光学元件领域相关原创性或综述性论文,旨在集中反映该领域最新的研究成果及发展趋势,为相关科研人员及广大读者今后更深入地开展该领域的研究提供参考。


一、征稿范围:
(1) 超构表面的设计、制造与应用
(2) 光栅元件的设计、制造与应用

(3) 衍射光学元件的设计、制造与应用


二、投稿说明

投稿注意事项及论文格式体例请参考《光学 精密工程》稿件要求,并采用《光学 精密工程》期刊投稿系统进行投稿。


投稿时请务必选择“平面光学元件的设计、制造及应用”专题。


稿件将由客座主编和编辑部组织同行专家进行评审,并做出录用与否的最终决定。编辑部会及时向作者转达评审意见。


联系人:曹金 E-mail: gxjmgc@ciomp.ac.cn


联系电话:0431-86176855


三、重要日期
投稿日期:2021年11月10日-2022年2月28日
录用日期:2022年3月

发表日期:2022年5月


四、客座主编
段辉高 湖南大学 E-mail:duanhg@hnu.edu.cn
胡跃强 湖南大学 E-mail:huyq@hnu.edu.cn

李涛    南京大学 E-mail:taoli@nju.edu.cn

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