近日,湖南大学段辉高教授、陈艺勤副教授团队联合博顿光电科技有限公司(IBDTEC)、季华实验室针对如何克服超薄Ag难以连续成膜这一难题,通过离子束增减材协同原位制造手段,实现了4.5 nm厚的连续Ag薄膜制备,将连续Ag薄膜薄度推进至新极限。该工艺通过离子束溅射过程中金属原子的微注入来提升Ag在衬底表面的成膜特性,可实现连续Ag薄膜生长的更低阈值厚度;同时,在更稳定的连续薄膜的基础上,通过原位离子束减薄,可将连续Ag薄膜减薄至4.5 nm。相关成果以“Pushing the thinness limit of silver films for flexible optoelectronic devices via ion-beam thinning-back process”为题发表在国际顶级期刊Naure Communications上。