图1 将pMINFLUX与石墨烯能量转移（GET）相结合，实现精确的3D定位。（a）上图：DNA结构示意图，其中单个染料位于石墨烯上方16nm的高度。下图：单个DNA折纸结构中单个染料分子总荧光强度的轨迹。（b）四个脉冲交错涡旋形光束中的每一个荧光衰减信号，这些光束聚焦在以三角形图案排列的样品上。星形表示染料分子的xy位置。（c）xy定位直方图。（d）荧光寿命分布。（e）从（d）的荧光寿命计算石墨烯z的距离分布。（f）使用pMINFLUX的2D信息和与荧光寿命的z距离对全荧光强度轨迹进行3D定位。单独的定位以黑色显示，在侧面显示了相应的投影，x、y为1nm，z为0.2nm。
图2 p-MINFLUX和GET组合的性能。（a）用N＝2000的固定光子数分析具有12至30nm范围内不同染料位置的示例性分子与石墨烯的距离z的分布。（b）用于评估精度的单个固定染料在与石墨烯z相距16nm处的示例性3D定位图，其具有不同数量的光子N。（c）x、y和z的定位精度是放置在不同高度的固定染料分子的光子数N的函数。灰色条纹表示MINFLUX在相应实验中的x、y精度，线条表示精度的理论下限。
图3 用pMINFLUX和GET进行超分辨率DNA-PAINT成像。（a）具有突出对接部位的成像结构示意图。（b）DNA-PAINT轨迹的3D定位，侧面有相应的投影。沿x轴和y轴的分格为1.5nm，沿z轴的分格为0.5nm。（c）所选x、y定位到石墨烯z的距离直方图。（d）相对于平均分子位置的x、y定位直方图。
图4 使用pMINFLUX和GET进行L-PAINT成像。（a L-PAINT成像器线束示意图。（b） 一种DNA结构，具有3条突出的链。（c）石墨烯上的DNA结构缩小图。（d）荧光强度迹线，2秒处有一条红线。（e）2秒后L-PANT迹线的3D定位。（f）30秒L-PANT轨迹的3D定位，侧面有相应的投影。（g）xz投影的2D直方图，分格为1nm，定位时间分格从15到50ms不等。（h）到x轴每个平均结合位置的距离直方图。（i）到y轴每个平均结合位置的距离直方图。（j）到石墨烯z的距离直方图。
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