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氮化镓和碳化硅对比

氮化镓和碳化硅对比 深圳市创飞芯源半导体有限公司
2024-06-05
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导读:氮化镓小知识氮化镓(GaN)是一种重要的半导体材料,具有优良的电子特性和广泛的应用前景。


氮化镓小知识



氮化镓(GaN)是一种重要的半导体材料,具有优良的电子特性和广泛的应用前景。在研究和应用过程中,GaN可以被分为E型和D型两种不同的形式。

     


应用



E-GaN在30W~300W电源应用中,因其高频高效特性,已得到市场认可;

D-GaN在1000W+的高功率应用中,因其驱动简单可靠,良好的可并联性,得到市场认可;

SiC在1200V+,1000W+的高压高功率应用中,已得到大规模应用和认可;


标题



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      D-GaN  VS  E-GaN  VS  SiC 


试数据对比


创飞芯源G2N65R035TQ-H

英诺赛科INN650TA050AH

Wolfspeed:  E3M0045065K

说明

类别

D-GaN

E-GaN

SiC


Rdson

(typ)

35m(25℃)

70m(150℃)

38m(25℃)

87m(150℃)

45m(25℃)

63m(150℃)

温度变化,SiC变化最小,E-GaN 最大

Vgsth(V)

min-typ-max

3.0-3.5-4.0 (Id=4.3mA)

1.2-1.7-2.5(Id=61.9mA)

1.8-2.8-3.6(Id=4.84mA)

D-GaN最好

关断是否需要负压

D-GaN最好

Vgs稳态电压范围

+/-20V

-6~+7V

-8~+19V

D-GaN最好

Vgs瞬态电压范围

+/-30V

-20~+10V

-8V~+20V

D-GaN最好

Idss(typ)

3uA

0.75uA

1uA

E-GaN最好

Igss

< 100nA

180uA

< 250nA

E-GaN大1000倍

Ciss

2410pF (Vds=400V)

450pF(Vds=400V)

1593pF

E-GaN最好

Crss

10pF(Vds=400V)

2.0pF(Vds=400V)

7pF

E-GaN最好

Coss

150pF(Vds=400V)

208pF(Vds=400V)

99pF

SiC最好

Vsd(反向导通压降)

-1.4V(15A)      

-1.9V(30A)

-2.5V(16A)

-4.7V(9A)

D-GaN最好

Eoss

17.6uJ

22.8uJ

9.76uJ

SiC最好

Qoss

150nC(0~400V)

150nC(0~400V)

105nC(0~400V)

SiC最好

Qg

38nC

12.5nC

64nC(-4V~+15V)

E-GaN最好

Qgd

13nC(0-400V)

5nC(0-400V)

19nC(0-400V)

E-GaN最好

Qrr

150nC

150nC

142nC

di/dt>2000A/us

相当

Trr

41ns(Is=30A,di/dt=1000A/us)

0

14ns

E-GaN最好


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创飞芯源采用全球最领先的12”晶圆工艺平台,为客户提供定制化的个性产品服务,很好地匹配驱动IC,匹配其他功率芯片,实现产品更高集成化,智能化的目标。
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