二氧化硅在光学领域中具有从紫外到红外的宽谱段透明特性，分子式sio2.也是常用的低折射率光学沉积薄膜材料。
其具有以下几个基本特性：
一、sio2薄膜的地域和时域性。光学薄膜的制备技术有很多种方法，不同的制备技术光学常数会有不同的数值，即使在同一个实验室不同的时期、不同的技术人员、同一台镀膜机做出来的结果也不尽相同。
二、sio2薄膜的时效性。镀膜材料的预处理时间和条件，以及使用的环境和制备环境的差异体现了二氧化硅薄膜的时效性。
二氧化硅薄膜材料是一种低折射率的优秀材料，在紫外、可见、近红外波长范围内常被使用到。但也常常和高折射率的材料混合使用，制作高精度的光学薄膜，比如：Ta2o5/Hfo2.对于离子束溅射沉积技术的Hfo2薄膜，镀膜前不要加热，否则会导致应力和非均匀性的变化，不加温、低束压和低束流，得到的低沉积速率薄膜性能较好。