王爷说财经讯：跌落神坛！日本尼康2025财年预亏850亿日元，创百年最差业绩；光刻机半年仅售9台，中低端为主。同期，荷兰ASML出货160台，其中EUV高端机型超20台。“9对160”，标志一个时代的终结。
2026年初，日本产业界震动。曾与佳能并称“光刻双雄”的百年光学巨头尼康，正式宣告战略溃退。
曾经的王者：尼康的全球光刻霸权
上世纪80年代，尼康代表日本精密制造巅峰，在专业相机与半导体光刻机两大领域同步登顶全球。
其光刻机精度极高——相当于从富士山顶精准命中东京街头一根绣花针。英特尔、IBM、德州仪器等全球芯片巨头争相抢购，甚至有企业高管驻厂预付全款，只为争得一台设备的调试资格。
巅峰时期，尼康垄断全球光刻机市场近50%份额，将美国光刻鼻祖GCA逼至破产；而如今的行业龙头ASML，彼时仅为夹缝求生的小厂。
溃败根源：傲慢与封闭的双重致命伤
傲慢：拒绝浸没式光刻技术
2002年，台积电工程师林本坚提出“浸没式光刻”构想：在镜头与晶圆间注入纯水，利用水的高折射率突破193nm干式光刻物理极限。该方案成本低、见效快。
尼康高层断然拒绝，认为将天价光学镜头浸入水中是“对工程的亵渎”；更因已在157nm干式路线投入超7亿美元，不愿转向。
林本坚转赴荷兰，获ASML全力支持。2004年，ASML浸没式光刻机问世，迅速席卷全球市场；尼康引以为傲的镜头优势一夜归零，高端份额崩塌。
封闭：EUV自研失败，错失全球化协作
浸没式失利后，尼康将翻盘希望押注EUV极紫外光刻技术，坚持“全自研、全日本产”。日本政府牵头组建产官学联盟，投入数百亿日元。
而ASML则采取开放策略：引入英特尔、台积电、三星三大客户战略投资，并联合德国蔡司、美国Cymer等顶尖供应商，构建全球化EUV技术生态。
美国以国家安全为由，将尼康排除在EUV核心技术圈之外，切断其关键路径。尼康耗资超千亿日元、历时十余年，最终仅完成无法商用的实验室原型机，于2025年宣布终止EUV商业化开发。
对中国光刻机产业的启示与机遇
尼康已陷入两难：高端市场被ASML彻底主导，失去入场资格；中低端市场则面临中国厂商加速替代——2025年9月，其运营58年的横滨光刻机工厂正式关闭，核心人物马立稔和即将卸任。
对国产光刻机而言，尼康收缩释放出成熟制程设备的宝贵替代空间。当前国内企业在90nm—28nm成熟制程领域持续突破，产业化进程明显提速。
尼康之败，非技术之败，实为战略之败：因傲慢拒创新，因封闭失协同。
全球尖端科技竞争早已超越单点突破，进入系统性生态竞合阶段。自主可控是底线，开放协作是路径；既要防范“卡脖子”，也要警惕“闭门造车”导致的技术代际脱节。
对正处于爬坡攻坚期的中国半导体产业而言，这既是一次现实市场机遇，更是一记深刻的战略警醒。