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陶瓷靶材通常都会绑定背板一起使用。背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材，还可以在溅射过程中起到热传递的作用。陶瓷靶材的种类很多，应用范围广泛，主要用于微电子领域，显示器用，存储等领域。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到空前的发展。
陶瓷靶材的种类及各自应用
·按应用来分，可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。
·按化学组成，可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用。
ITO（氧化铟锡）靶材是溅射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一种，在显示靶材中占比将近50%。ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结（1600度，通氧气烧结）形成的黑灰色陶瓷半导体。
ITO靶材有中低端和高端之分：
中低端ITO靶材有玻璃镀膜靶材、发热膜和热反射膜靶材，包括汽车的显示屏、一些仪器仪表的显示；
高端ITO靶材主要用于显示器薄膜靶材、集成电路薄膜靶材以及磁记录和光记录膜靶材，尤其用于大面积、大规格的LED、OLED等领域，具备高密度、高纯度、高均匀性等特点。
陶瓷靶材的特性要求
纯度：陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好。
密度：为了减少陶瓷靶材的气孔，提高薄膜性能，要求溅射陶瓷靶材具有高密度。
成分与结构均匀性：为保证溅射薄膜均匀，尤其在复杂的大面积镀膜应用中，必须做到靶材成分与结构均匀性好。
如何评价我国成功研制世界最大口径单体碳化硅反射镜？
图. 中科院长春光机所研制成功的直径4.03米口径高精度碳化硅非球面反射镜
在大口径碳化硅非球面加工检测技术方面，项目研发团队突破大口径碳化硅非球面高精度高效加工技术瓶颈，并解决了高精度零位检测精度标定、调整误差分离、投影畸变校正等关键问题，完成4米量级碳化硅非球面高精度加工，加工精度优于16纳米，全面实现4米量级碳化硅高精度加工与检测技术自主可控。
在大口径碳化硅改性镀膜技术方面，项目研发团队在国际上首次研制成功碳化硅反射镜改性与反射膜镀制一体化设备，提升膜层质量与可靠性，实现4米口径碳化硅反射镜表面高反射率薄膜镀制，可见至长波红外全谱段反射率优于95%。
中国通过研制成功“4米量级高精度碳化硅非球面反射镜集成制造系统”，形成具备自主知识产权的4米量级大口径反射镜研制能力，并陆续应用于中国各类大型光电设备，将推动中国在大口径光学反射镜制造技术方面实现跨越式发展，大幅提升中国高性能大型光学仪器研制水平。
目前，“4米量级高精度碳化硅非球面反射镜集成制造系统”项目成果已获得一系列重要应用：2米量级碳化硅非球面反射镜已应用于国家大型光电系统项目；4米量级碳化硅非球面反射镜即将应用于国家重大工程项目。同时，项目成果将持续应用于中国空间站多功能光学设施、国家重点研发计划“静止轨道高分辨率轻型成像相机系统技术”等一系列国家重大基础研究和工程项目研制。
“4米量级高精度碳化硅非球面反射镜集成制造系统”项目研究成果还成功应用于多项国家重大型号项目及背景预研项目中，并成功牵引出总经费近50亿元的多项国家重大型号项目。
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