简介
近年来,随着技术的发展,材料越发追求轻量化。泡沫铝、泡沫铜等金属泡沫材料,开始在实际生产生活中得到广泛应用。这类金属泡沫材料优点突出:首先,其具有超高孔隙率的结构特点,因此通常被用于轻型结构,特别是夹层结构的芯材;其次,轻量化可以提高燃油效率。上述优点,使得材料轻量化在国防、航空航天、交通运输等工程领域有着广阔的应用前景。不过,由于金属泡沫材料在机械性能比上远低于基体合金材料,它们的应用领域仍尚有限。本文所述之陶瓷球复合泡沫金属超轻材料,其发明和近年来所取得的研究进展,则正好弥补了金属泡沫材料的局限性。目前来说,陶瓷球复合泡沫金属超轻材料可谓地球上强度最高的泡沫材料。
首先,该材料是一种特殊的复合新型泡沫材料。通过植入以矩阵排列的中空陶瓷颗粒作为增强材料,该材料的整体模量和强度明显高于同一基体制成的其他泡沫材料。与基体合金材料相比,增强材料提供给复合泡沫一个较高的孔隙率,从而使其重量大大减轻。而除了重量减轻之外,材料内部均匀分布陶瓷球形的存在,也有助于复合泡沫在压缩下获得高能量吸收。
其次,陶瓷球复合泡沫铝超轻材料的多孔结构,可以承受巨大的塑性变形,它可以在产生压缩或冲击条件下吸收能量。其良好的阻尼能力,可应用于减少振动。所以,它可以作为一种保护材料,通过牺牲自己来防止碰撞或冲击造成的损害。
综上所述,陶瓷球复合泡沫铝材料是目前最具应用潜力的泡沫金属,并已成为新型结构功能一体化材料的杰出代表和当今材料发展的前沿热点。
材料性能
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轻量化
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应力-应变曲线
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减震与吸能性能
工程领域的应用
等静压氮化硅陶瓷球制备过程
2、混合均匀化:将氮化硅粉体与适量的烧结助剂(如碳化硅、氧化钇等)进行混合均匀化,这是促进烧结过程中液相烧结的关键步骤。液相烧结可以降低烧结温度并提高材料致密度,从而提升氮化硅陶瓷球的机械性能和使用寿命。混合均匀化可以采用球磨、搅拌等方法,以确保粉体和烧结助剂能够充分混合,形成均匀的混合物。
3、等静压成型:等静压成型技术是制备氮化硅陶瓷球的核心环节。在这一步骤中,将混合均匀的粉体放入模具中,通过等静压成型技术施加高压,使粉体颗粒紧密排列并形成具有一定形状和密度的坯体。等静压成型的关键在于控制成型压力和保持压力的稳定性,以确保坯体的均匀性和致密性。合适的成型压力可以提高坯体的密度和强度,为后续烧结和加工奠定良好的基础。
4、烧结:烧结过程对氮化硅陶瓷球的性能有着决定性的影响。在这一步骤中,将成型后的坯体放入烧结炉中进行高温高压烧结。烧结温度和保温时间是影响产品性能的重要因素,需要严格控制。合适的烧结温度和保温时间可以促进坯体的致密化和晶粒长大,提高陶瓷球的硬度和强度。同时,还可以减少产品中的缺陷和裂纹,提升陶瓷球的整体质量。
由于陶瓷材料固有的高硬度、高脆性的特点,加上球体形状的限制,使得陶瓷球在抛光过程中一直都存在效率低下、加工成本高以及球体表面容易损伤的情况。陶瓷球在抛光加工过程中,球体受到的抛光外力来自两部分:其一是研磨盘施加给球体压力,该方式可视为压痕断裂力学中的钝压头;其二是磨粒切入球体表面,该方式可视为压痕断裂力学中的锐压头。由于在抛光过程中这两种作用都存在,导致陶瓷球在抛光过程中容易造成凹坑、裂纹、雪花、擦伤、划伤等一系列的加工缺陷。
反应烧结法是通过原料间的化学反应,在烧结过程中生成氮化硅,从而得到氮化硅陶瓷球。该方法的工艺相对简单,成本较低,适用于大规模生产。由于反应过程中气体的生成和逸出,产品内部往往存在气孔,导致致密度较低,机械性能受到一定影响。
热压烧结法是在高温和高压条件下进行烧结,通过外部压力促进陶瓷颗粒的紧密排列和物质的传递过程,从而获得高致密度的氮化硅陶瓷球。这种方法制备的产品性能优异,但设备复杂且成本较高,限制了其的应用。
常压烧结法是在常压条件下进行烧结,通过优化原料配比和烧结工艺,可以在一定程度上提高产品的性能。这种方法适用于大规模生产,成本相对较低,但产品性能相较于热压烧结法有所降低。
放电等离子烧结法是一种新型的快速烧结技术,通过放电等离子体的高温和高能量作用,实现陶瓷材料的快速致密化。这种方法能够在短时间内获得细晶结构的氮化硅陶瓷球,从而提高产品的机械性能和耐磨性。放电等离子烧结法的设备昂贵,操作复杂,且对原料的要求较高。
除了上述几种主要的烧结技术外,还有一些其他方法如熔融沉积技术等也被用于制备氮化硅陶瓷球。
5、精密加工:烧结后的氮化硅陶瓷球需要进行表面精加工,以满足高精度和低粗糙度的要求。这包括磨削、抛光和超精加工工艺。现代加工技术如数控研磨机和激光辅助抛光等极大地提高了生产效率和产品质量。通过这些精密加工技术,可以进一步降低陶瓷球的表面粗糙度,提高其形状精度和尺寸精度,从而满足各种高精度应用场合的需求。
陶瓷球研磨抛光的主要工艺
四轴球体研磨工艺
使用四轴球体研磨机对单颗球体进行研磨抛光加工,通过四轴转动方向的不同组合使自转角发生变化,从而实现瞬时轴不断变化。这种研磨方式能获得较高加工精度,但一次只能对一颗球进行加工,加工效率低。
研磨盘机械研磨抛光工艺
采用有导向槽的上下研磨盘对球坯进行研磨抛光加工,球坯沿研磨盘上的导向槽运动,一边自转一边公转,通过自转角的不断变化,使研磨轨迹均布于球面。普遍应用的研磨方式主要有V形槽研磨方式、锥形盘研磨方式以及自旋回转控制研磨方式等。
加工过程中,球坯的自转角θ几乎是恒定值,因为球坯的公转轴与自转轴的夹角变化很小,3个同轴环带以非常缓慢的速度展开,不利于球体均匀快速地研磨加工。通过让球体循环进出研磨盘沟槽和球坯打滑、搅动等现象,随机改变各球的自转角θ,以致球面上各点的切削概率不相等,难以获得球体精度的高一致性,批合格率通常只有30%左右,限制了加工精度和加工效率。
传统的V型槽精加工方法主要采用金刚石磨料作为抛光介质,载荷大约为10 N/球,抛光时间长,一批陶瓷球的加工周期需要12~15个星期。昂贵的金刚石磨料和漫长的加工周期使制造成本高居不下。另外,在较高载荷作用下,高硬度的金刚石磨料会在陶瓷球表面造成刮伤、凹坑和微裂纹等表面损伤,这些表面损伤经外部载荷的作用,会进一步扩展形成较大的脆性裂缝,从而导致轴承滚珠的突然失效。
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