“2019中国（上海）集成电路创新峰会”在上海科学会堂举行。上海将牵头制定“中国集成电路技术路线图”，担纲重任的是国家集成电路创新中心。
据了解，此次公布的《中国集成电路技术路线图（草稿）》（简称《路线图》）由集成电路制造技术现状和发展趋势、先进光刻工艺发展趋势等六大部分组成。
据悉，美国半导体行业协会自1992年开始编写半导体技术路线图（ITRS路线图），累计发布了9个版本，路线图给出了未来15年集成电路技术演进方案和设想，为国际集成电路产业发展提供了很大的帮助。
值得注意的是，《路线图》并没有照搬“摩尔定律”的模式，而是关注了在集成电路发展上“弯道超车”的其他路线。
对于上海牵头制定中国集成电路技术路线图，这是一种尝试，希望借鉴ITRS模式，结合中国IC产业实际，为产业发展提供帮助。
与会专家认为，中国集成电路产业已经有了长足的发展，引领产业进一步发展，现在制定路线图很有必要、正当时。
对于路线图发布时间，国家集成电路创新中心将在广泛征求专家意见、对路线图修订后，再择机进行发布。
文章来源：光刻人的世界
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