近年来,实验室建设的重点正在从“补齐设备”转向“完善能力结构”。二维观察已难以满足复杂材料研究需求;单一表征手段越来越难解释多尺度问题;单纯检测能力,也无法支撑高水平的材料设计与工艺优化。对于高校科研和企业研发部门而言,仪器选型不仅影响实验效率,更直接影响研究深度与技术转化节奏。本文将围绕四大技术模块,梳理 2026 年值得关注的实验室能力方向与选型思路。
显微成像
显微成像技术已经不再只是展示材料表面形貌的工具,而是理解微观结构与功能关系的基础平台。
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Phenom 飞纳台式扫描电镜
型号推荐
Phenom 飞纳台式扫描电镜
值得一提的是,Phenom AI 智能扫描电镜,支持全流程自动成像和自由编程(PPI)功能(适配所有飞纳型号),为微观世界的探索带来了前所未有的自由度和无限可能。
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Technoorg Linda 离子研磨仪
Technoorg Linda SEMPREP SMART 配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁。离子加工可以改进和清洁机械抛光的 SEM 样品,并为 EBSD 分析制备无损表面。
产品特点
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Neoscan 高分辨显微CT
NEOSCAN 台式显微 CT 经过四十年技术沉淀,以精密机械结构与智能图像重建算法为核心,在台式机体积下实现高达 40nm 的像素分辨率,高性能三维无损成像的特性受到众多高校科研与企业用户青睐!它无需切割或制备即可直接观察材料和生物样品内部结构,一次扫描即可获得形貌、裂纹、孔隙、界面及定量信息。
产品特点
NeoScan 型号推荐
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原子力显微镜系列
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AFM-SEM 联用
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ICSPI 原子力显微镜
ICSPI 在原子力显微镜系统设计、探针控制与纳米级表征技术方面拥有深厚的技术积累。其 AFM 产品以高稳定性、高重复性及灵活的模块化架构著称,广泛应用于半导体器件表征、薄膜与纳米材料研究、精密表面形貌分析等领域。
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透射电镜原位分析
材料性能往往来源于动态过程。DENSsolutions 原位样品杆,使研究者可以在加热、电场或气氛环境下观察结构变化,配合 Technoorg Linda TEM 精修设备,可以提高样品质量与实验稳定性。原位技术的价值,在于让研究更贴近真实工作状态。
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DENSsolutions TEM 原位样品杆
DENSsolutions 作为原位 TEM 领域的领先品牌,凭借高稳定性芯片与完整的加热、热电、气相、液相和冷冻解决方案,为原位实验提供高可重复性与定量控制,目前已应用于国内 100 余所高校和科研院所。
产品特点
DENSsolutions 型号推荐
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Technoorg Linda TEM 样品制备
Technoorg Linda 的离子减薄仪、离子精修仪配备了超高能离子枪和低能离子枪,通过控制离子束的能量和角度,可对样品进行快速研磨及表面精细加工和最终抛光。
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清洁度
在锂电、汽车、钢铁与半导体等高端制造领域,微米级颗粒与非金属夹杂物已成为影响可靠性、良率与产品寿命的关键因素。清洁度不再只是检测项目,而是企业核心竞争力的重要组成部分。
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锂电清洁度
锂电池中的铜、锌、铁等金属异物可能导致严重的安全事故,对金属异物的管控也已成为行业共识。飞纳电镜 ParticleX Battery 全自动锂电清洁度分析系统,基于扫描电镜 + 能谱法可自动识别、分析和统计铜、锌、铁等金属异物,进而帮助分析异物来源,改善生产条件,减少安全事故的发生。
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汽车清洁度
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原子制造
近年来,材料性能的突破越来越依赖界面调控与纳米尺度结构设计。传统宏观工艺已难以满足对精度与一致性的要求,研究与研发的重心逐渐下沉至原子与纳米尺度。复纳原子制造产品线聚焦新型原子层沉积(ALD)与纳米沉积打印技术方案,赋能微纳产业前沿发展。
ALD 产品线
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Forge Nano 粉末原子层沉积系统
表面包覆作为提升粉末物理化学性能的重要手段,长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同,PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术,并保持良好的共形性。Forge Nano 经过多年研发,已经开发出低成本的规模化粉末原子层沉积包覆技术,目前已广泛应用于锂电、催化、金属、制药等领域。
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纳米沉积打印产品线
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VSParticle 干法纳米沉积打印系统
VSParticle 是一家领先的纳米材料制造创新企业,凭借火花烧蚀与干法沉积平台,实现了高质量、可定制化的纳米结构材料的规模化制备。其技术已广泛应用于能源存储、传感器、催化等领域。
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Tera Print 桌面式无掩模蘸笔光刻/打印系统
Tera Print 桌面光刻系统采用光束笔光刻技术(BPL),高度并行、无需光刻掩模,它克服了衍射极限,能够在平方厘米区域内快速创建任意图案,特征分辨率低至 250nm。作为全球最先进的桌面纳米光刻打印机,比以往更快更经济地原型制造和生产纳米结构表面与器件。结合了 DMD 无掩模光刻/聚束笔光刻/打印的新一代桌面式微纳制造系统,可将线宽控制低至 250nm。
产品特点
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