SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
本文件深度剖析了用于光记录媒体绝缘层制造的靶材技术方案，为出海电子材料制造商和光学存储设备供应链企业提供了一份高价值的技术合规与产品创新指南。文件指出，随着高功率激光刻录技术普及，传统靶材易引发异常放电、影响生产效率并带来健康安全隐患，企业必须转向具备稳定电阻特性和元素分布均匀性的新型复合氧化物靶材，以满足高端光存储介质的量产需求。 高价值信息速览 靶材核心成分比例：该靶材由氧化锌(ZnO)、氧化
报告时间：2023-03-01
报告来源：lucky出海
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